НОК двух чисел

Глубина истощения PN-перехода с дренажом СБИС Калькулятор

Инженерное дело Детская площадка Здоровье математика Больше >>

↳

Электроника Гражданская Материаловедение Механический Больше >>

⤿

Изготовление СБИС EDC Аналоговая связь Аналоговая электроника Больше >>

⤿

Оптимизация материалов СБИС Аналоговая СБИС

✖Концентрация акцептора относится к концентрации атомов акцепторной примеси в полупроводниковом материале.ⓘ Концентрация акцептора [N_A]			+10% -10%
✖Встроенное напряжение перехода определяется как напряжение, которое существует на полупроводниковом переходе в тепловом равновесии, когда внешнее напряжение не приложено.ⓘ Встроенное напряжение соединения [Ø₀]			+10% -10%
✖Сток к истоку. Потенциал – это потенциал между стоком и истоком.ⓘ Сток в источник потенциала [V_ds]			+10% -10%

✖Глубина обеднения Pn-перехода со стоком определяется как расширение области обеднения в полупроводниковый материал вблизи стоковой клеммы.ⓘ Глубина истощения PN-перехода с дренажом СБИС [x_dD]

⎘ копия

👎

Формула

✖

Глубина истощения PN-перехода с дренажом СБИС

Формула

x dD = \sqrt{(\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum]}{[Charge-e] \cdot N A}) \cdot (Ø 0 + V ds)}

Пример

0.534467 μm = \sqrt{(\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum]}{[Charge-e] \cdot 1e+16 /cm³}) \cdot (0.76 V + 1.45 V)}

Калькулятор

LaTeX

сбросить

👍

Скачать Электроника формула PDF PDF Image

Глубина истощения PN-перехода с дренажом СБИС Решение

ШАГ 0: Сводка предварительного расчета

Используемая формула

Глубина истощения Pn-перехода с дренажем = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Концентрация акцептора))*(Встроенное напряжение соединения+Сток в источник потенциала))
x_dD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*N_A))*(Ø₀+V_ds))
В этой формуле используются 3 Константы, 1 Функции, 4 Переменные

Используемые константы

[Permitivity-silicon] - Диэлектрическая проницаемость кремния Значение, принятое как 11.7
[Permitivity-vacuum] - Диэлектрическая проницаемость вакуума Значение, принятое как 8.85E-12
[Charge-e] - Заряд электрона Значение, принятое как 1.60217662E-19

Используемые функции

sqrt - Функция извлечения квадратного корня — это функция, которая принимает на вход неотрицательное число и возвращает квадратный корень из заданного входного числа., sqrt(Number)

Используемые переменные

Глубина истощения Pn-перехода с дренажем - (Измеряется в Метр) - Глубина обеднения Pn-перехода со стоком определяется как расширение области обеднения в полупроводниковый материал вблизи стоковой клеммы.
Концентрация акцептора - (Измеряется в 1 на кубический метр) - Концентрация акцептора относится к концентрации атомов акцепторной примеси в полупроводниковом материале.
Встроенное напряжение соединения - (Измеряется в вольт) - Встроенное напряжение перехода определяется как напряжение, которое существует на полупроводниковом переходе в тепловом равновесии, когда внешнее напряжение не приложено.
Сток в источник потенциала - (Измеряется в вольт) - Сток к истоку. Потенциал – это потенциал между стоком и истоком.

ШАГ 1. Преобразование входов в базовый блок

Концентрация акцептора: 1E+16 1 на кубический сантиметр --> 1E+22 1 на кубический метр (Проверьте преобразование здесь)
Встроенное напряжение соединения: 0.76 вольт --> 0.76 вольт Конверсия не требуется
Сток в источник потенциала: 1.45 вольт --> 1.45 вольт Конверсия не требуется

ШАГ 2: Оцените формулу

Подстановка входных значений в формулу

x_dD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*N_A))*(Ø₀+V_ds)) --> sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*1E+22))*(0.76+1.45))

Оценка ... ...

x_dD = 5.34466520692296E-07

ШАГ 3: Преобразуйте результат в единицу вывода

5.34466520692296E-07 Метр -->0.534466520692296 микрометр (Проверьте преобразование здесь)

ОКОНЧАТЕЛЬНЫЙ ОТВЕТ

0.534466520692296 ≈ 0.534467 микрометр <-- Глубина истощения Pn-перехода с дренажем

(Расчет завершен через 00.020 секунд)

Вы здесь -

Дом » Инженерное дело » Электроника » Изготовление СБИС » Оптимизация материалов СБИС » Глубина истощения PN-перехода с дренажом СБИС

Кредиты

Сделано Приянка Патель

Инженерный колледж Лалбхай Далпатбхай (ЛДЦЭ), Ахмедабад

Приянка Патель создал этот калькулятор и еще 25+!

Проверено Сантош Ядав

Инженерный колледж Даянанды Сагара (ДСКЭ), Банглор

Сантош Ядав проверил этот калькулятор и еще 50+!

< Оптимизация материалов СБИС Калькуляторы

Коэффициент эффекта тела

Идти Коэффициент эффекта тела = modulus((Пороговое напряжение-Пороговое напряжение DIBL)/(sqrt(Поверхностный потенциал+(Разница в потенциале исходного тела))-sqrt(Поверхностный потенциал)))

DIBL Коэффициент

Идти Коэффициент DIBL = (Пороговое напряжение DIBL-Пороговое напряжение)/Сток в источник потенциала

Плата за канал

Идти Плата за канал = Емкость затвора*(Ворота к напряжению канала-Пороговое напряжение)

Критическое напряжение

Идти Критическое напряжение = Критическое электрическое поле*Электрическое поле по длине канала

Узнать больше >>