✖Параметр крутизны процесса в PMOS (PTM) — это параметр, используемый при моделировании полупроводниковых устройств для характеристики производительности транзистора.ⓘ Параметр крутизны процесса в PMOS [k'p] | | | +10% -10% |
✖Соотношение сторон определяется как отношение ширины канала транзистора к его длине. Это отношение ширины ворот к расстоянию между источникомⓘ Соотношение сторон [WL] | | | +10% -10% |
✖Напряжение между затвором и истоком полевого транзистора (FET) известно как напряжение затвор-исток (VGS). Это важный параметр, влияющий на работу полевого транзистора.ⓘ Напряжение между затвором и источником [VGS] | | | +10% -10% |
✖Пороговое напряжение, также известное как пороговое напряжение затвора или просто Vth, является критическим параметром в работе полевых транзисторов, являющихся фундаментальными компонентами современной электроники.ⓘ Пороговое напряжение [VT] | | | +10% -10% |
✖Напряжение между стоком и истоком является ключевым параметром в работе полевого транзистора (FET) и часто упоминается как «напряжение сток-исток» или VDS.ⓘ Напряжение между стоком и истоком [VDS] | | | +10% -10% |
✖Раннее напряжение полностью зависит от технологического процесса и имеет размеры вольт на микрон.ⓘ Раннее напряжение [Va] | | | +10% -10% |