калькулятор НОК

Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС Калькулятор

Инженерное дело Детская площадка Здоровье математика Больше >>

↳

Электроника Гражданская Материаловедение Механический Больше >>

⤿

Изготовление СБИС EDC Аналоговая связь Аналоговая электроника Больше >>

⤿

Оптимизация материалов СБИС Аналоговая СБИС

✖Толщина оксида затвора определяется как толщина изолирующего слоя (оксида), который отделяет электрод затвора от полупроводниковой подложки в MOSFET.ⓘ Толщина оксида ворот [t_ox]			+10% -10%
✖Масштабный коэффициент определяется как соотношение, на которое размеры транзистора изменяются в процессе проектирования.ⓘ Коэффициент масштабирования [Sf]			+10% -10%

✖Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля.ⓘ Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС [t_ox']

⎘ копия

👎

Формула

LaTeX

сбросить

👍

Скачать Электроника формула PDF PDF Image

Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС Решение

ШАГ 0: Сводка предварительного расчета

Используемая формула

Толщина оксида затвора после полного масштабирования = Толщина оксида ворот/Коэффициент масштабирования
t_ox' = t_ox/Sf
В этой формуле используются 3 Переменные

Используемые переменные

Толщина оксида затвора после полного масштабирования - (Измеряется в Метр) - Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля.
Толщина оксида ворот - (Измеряется в Метр) - Толщина оксида затвора определяется как толщина изолирующего слоя (оксида), который отделяет электрод затвора от полупроводниковой подложки в MOSFET.
Коэффициент масштабирования - Масштабный коэффициент определяется как соотношение, на которое размеры транзистора изменяются в процессе проектирования.

ШАГ 1. Преобразование входов в базовый блок

Толщина оксида ворот: 2 нанометр --> 2E-09 Метр (Проверьте преобразование здесь)
Коэффициент масштабирования: 1.5 --> Конверсия не требуется

ШАГ 2: Оцените формулу

Подстановка входных значений в формулу

t_ox' = t_ox/Sf --> 2E-09/1.5

Оценка ... ...

t_ox' = 1.33333333333333E-09

ШАГ 3: Преобразуйте результат в единицу вывода

1.33333333333333E-09 Метр -->1.33333333333333 нанометр (Проверьте преобразование здесь)

ОКОНЧАТЕЛЬНЫЙ ОТВЕТ

1.33333333333333 ≈ 1.333333 нанометр <-- Толщина оксида затвора после полного масштабирования

(Расчет завершен через 00.004 секунд)

Вы здесь -

Дом » Инженерное дело » Электроника » Изготовление СБИС » Оптимизация материалов СБИС » Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС

Кредиты

Сделано Приянка Патель

Инженерный колледж Лалбхай Далпатбхай (ЛДЦЭ), Ахмедабад

Приянка Патель создал этот калькулятор и еще 25+!

Проверено Сантош Ядав

Инженерный колледж Даянанды Сагара (ДСКЭ), Банглор

Сантош Ядав проверил этот калькулятор и еще 50+!

< Оптимизация материалов СБИС Калькуляторы

Коэффициент эффекта тела

LaTeX Идти Коэффициент эффекта тела = modulus((Пороговое напряжение-Пороговое напряжение DIBL)/(sqrt(Поверхностный потенциал+(Разница в потенциале исходного тела))-sqrt(Поверхностный потенциал)))

DIBL Коэффициент

LaTeX Идти Коэффициент DIBL = (Пороговое напряжение DIBL-Пороговое напряжение)/Сток в источник потенциала

Плата за канал

LaTeX Идти Плата за канал = Емкость затвора*(Ворота к напряжению канала-Пороговое напряжение)

Критическое напряжение

LaTeX Идти Критическое напряжение = Критическое электрическое поле*Электрическое поле по длине канала

Узнать больше >>

Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС формула

LaTeX Идти

Толщина оксида затвора после полного масштабирования = Толщина оксида ворот/Коэффициент масштабирования
t_ox' = t_ox/Sf

Дом

БЕСПЛАТНО PDF-файлы

🔍 Поиск

Категории

доля

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!