Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentração do aceitante))*(Tensão interna de junção+Drenar para Potencial de Fonte))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
Esta fórmula usa 3 Constantes, 1 Funções, 4 Variáveis
Constantes Usadas
[Permitivity-silicon] - Permissividade do silício Valor considerado como 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permissividade do vácuo Valor considerado como 8.85E-12
[Charge-e] - Carga do elétron Valor considerado como 1.60217662E-19
Funções usadas
sqrt - Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido., sqrt(Number)
Variáveis Usadas
Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno - (Medido em Metro) - A profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno é definida como a extensão da região de esgotamento no material semicondutor próximo ao terminal de dreno.
Concentração do aceitante - (Medido em 1 por metro cúbico) - Concentração do aceitador refere-se à concentração de átomos dopantes aceitadores em um material semicondutor.
Tensão interna de junção - (Medido em Volt) - A tensão incorporada na junção é definida como a tensão que existe através de uma junção semicondutora em equilíbrio térmico, onde nenhuma tensão externa é aplicada.
Drenar para Potencial de Fonte - (Medido em Volt) - Dreno para a fonte O potencial é o potencial entre o dreno e a fonte.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Concentração do aceitante: 1E+16 1 por centímetro cúbico --> 1E+22 1 por metro cúbico (Verifique a conversão ​aqui)
Tensão interna de junção: 0.76 Volt --> 0.76 Volt Nenhuma conversão necessária
Drenar para Potencial de Fonte: 1.45 Volt --> 1.45 Volt Nenhuma conversão necessária
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds)) --> sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*1E+22))*(0.76+1.45))
Avaliando ... ...
xdD = 5.34466520692296E-07
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
5.34466520692296E-07 Metro -->0.534466520692296 Micrômetro (Verifique a conversão ​aqui)
RESPOSTA FINAL
0.534466520692296 0.534467 Micrômetro <-- Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por Priyanka Patel
Faculdade de Engenharia Lalbhai Dalpatbhai (LDCE), Ahmedabad
Priyanka Patel criou esta calculadora e mais 25+ calculadoras!
Verifier Image
Verificado por Santosh Yadav
Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar (DSCE), Banglore
Santosh Yadav verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!

Otimização de materiais VLSI Calculadoras

Coeficiente de Efeito Corporal
​ LaTeX ​ Vai Coeficiente de Efeito Corporal = modulus((Tensão de limiar-Tensão Limite DIBL)/(sqrt(Potencial de Superfície+(Diferença potencial do corpo de origem))-sqrt(Potencial de Superfície)))
Coeficiente DIBL
​ LaTeX ​ Vai Coeficiente DIBL = (Tensão Limite DIBL-Tensão de limiar)/Drenar para Potencial de Fonte
Carga do canal
​ LaTeX ​ Vai Taxa de canal = Capacitância do portão*(Tensão do portão para o canal-Tensão de limiar)
Tensão Crítica
​ LaTeX ​ Vai Tensão Crítica = Campo Elétrico Crítico*Campo elétrico ao longo do comprimento do canal

Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI Fórmula

​LaTeX ​Vai
Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentração do aceitante))*(Tensão interna de junção+Drenar para Potencial de Fonte))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
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