Parâmetro do Processo de Fabricação do NMOS Calculadora

✖A concentração de dopagem do substrato P é o número de impurezas adicionadas ao substrato. É a concentração total de íons aceitadores.ⓘ Concentração de Dopagem do Substrato P [N_P]			+10% -10%
✖A capacitância de óxido é um parâmetro importante que afeta o desempenho de dispositivos MOS, como a velocidade e o consumo de energia de circuitos integrados.ⓘ Capacitância de Óxido [C_ox]			+10% -10%

✖O parâmetro do processo de fabricação é o processo que se inicia com a oxidação do substrato de silício no qual uma camada de óxido relativamente espessa é depositada na superfície.ⓘ Parâmetro do Processo de Fabricação do NMOS [γ]

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Fórmula

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Parâmetro do Processo de Fabricação do NMOS

Fórmula

γ = \frac{\sqrt{2 \cdot [Charge-e] \cdot N P \cdot [Permitivity-vacuum]}}{C ox}

Exemplo

204.2049 = \frac{\sqrt{2 \cdot [Charge-e] \cdot 6E16 /cm³ \cdot [Permitivity-vacuum]}}{2.02 μF}

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Parâmetro do Processo de Fabricação do NMOS Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo

Fórmula Usada

Parâmetro do Processo de Fabricação = sqrt(2*[Charge-e]*Concentração de Dopagem do Substrato P*[Permitivity-vacuum])/Capacitância de Óxido
γ = sqrt(2*[Charge-e]*N_P*[Permitivity-vacuum])/C_ox
Esta fórmula usa 2 Constantes, 1 Funções, 3 Variáveis

Constantes Usadas

[Permitivity-vacuum] - Permissividade do vácuo Valor considerado como 8.85E-12
[Charge-e] - Carga do elétron Valor considerado como 1.60217662E-19

Funções usadas

sqrt - Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido., sqrt(Number)

Variáveis Usadas

Parâmetro do Processo de Fabricação - O parâmetro do processo de fabricação é o processo que se inicia com a oxidação do substrato de silício no qual uma camada de óxido relativamente espessa é depositada na superfície.
Concentração de Dopagem do Substrato P - (Medido em 1 por metro cúbico) - A concentração de dopagem do substrato P é o número de impurezas adicionadas ao substrato. É a concentração total de íons aceitadores.
Capacitância de Óxido - (Medido em Farad) - A capacitância de óxido é um parâmetro importante que afeta o desempenho de dispositivos MOS, como a velocidade e o consumo de energia de circuitos integrados.

ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base

Concentração de Dopagem do Substrato P: 6E+16 1 por centímetro cúbico --> 6E+22 1 por metro cúbico (Verifique a conversão aqui)
Capacitância de Óxido: 2.02 Microfarad --> 2.02E-06 Farad (Verifique a conversão aqui)

ETAPA 2: Avalie a Fórmula

Substituindo valores de entrada na fórmula

γ = sqrt(2*[Charge-e]*N_P*[Permitivity-vacuum])/C_ox --> sqrt(2*[Charge-e]*6E+22*[Permitivity-vacuum])/2.02E-06

Avaliando ... ...

γ = 204.204864690003

PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída

204.204864690003 --> Nenhuma conversão necessária

RESPOSTA FINAL

204.204864690003 ≈ 204.2049 <-- Parâmetro do Processo de Fabricação

(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

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Créditos

Criado por Payal Priya

Birsa Institute of Technology (MORDEU), Sindri

Payal Priya criou esta calculadora e mais 600+ calculadoras!

Verificado por Urvi Rathod

Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad

Urvi Rathod verificou esta calculadora e mais 1900+ calculadoras!

< Aprimoramento do Canal N Calculadoras

Corrente entrando na fonte de dreno na região do triodo do NMOS

Vai Drenar corrente em NMOS = Parâmetro de transcondutância do processo em NMOS*Largura do Canal/Comprimento do Canal*((Tensão da fonte do portão-Tensão de limiar)*Tensão da Fonte de Dreno-1/2*(Tensão da Fonte de Dreno)^2)

Terminal de drenagem de entrada de corrente de NMOS dada tensão de fonte de porta

NMOS como resistência linear

Vai Resistência Linear = Comprimento do Canal/(Mobilidade de Elétrons na Superfície do Canal*Capacitância de Óxido*Largura do Canal*(Tensão da fonte do portão-Tensão de limiar))

Velocidade de deriva de elétrons do canal no transistor NMOS

Vai Velocidade de deriva de elétrons = Mobilidade de Elétrons na Superfície do Canal*Campo elétrico ao longo do comprimento do canal

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Parâmetro do Processo de Fabricação do NMOS Fórmula

Parâmetro do Processo de Fabricação = sqrt(2*[Charge-e]*Concentração de Dopagem do Substrato P*[Permitivity-vacuum])/Capacitância de Óxido
γ = sqrt(2*[Charge-e]*N_P*[Permitivity-vacuum])/C_ox

Qual é o outro nome do parâmetro do processo de fabricação?

O parâmetro do processo de fabricação também é conhecido como parâmetro de efeito corporal. É denotado por γ. É positivo em NMOS.

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