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Eficiência de injeção de emissor dadas constantes de dopagem Calculadora
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Fabricação de CI bipolar
Fabricação de IC MOS
Gatilho Schmitt
✖
A dopagem no lado N refere-se ao processo de introdução de tipos específicos de impurezas na região semicondutora do tipo N de um dispositivo semicondutor.
ⓘ
Doping no lado N [N
dn
]
1 por centímetro cúbico
1 por metro cúbico
+10%
-10%
✖
Dopagem no lado P refere-se ao processo de introdução de tipos específicos de impurezas na região semicondutora do tipo P de um dispositivo semicondutor.
ⓘ
Doping no lado P [N
dp
]
1 por centímetro cúbico
1 por metro cúbico
+10%
-10%
✖
A eficiência de injeção do emissor é a razão entre a corrente de elétrons que flui no emissor e a corrente total através da junção da base do emissor.
ⓘ
Eficiência de injeção de emissor dadas constantes de dopagem [γ]
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Eficiência de injeção de emissor dadas constantes de dopagem Solução
ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Eficiência de injeção de emissor
=
Doping no lado N
/(
Doping no lado N
+
Doping no lado P
)
γ
=
N
dn
/(
N
dn
+
N
dp
)
Esta fórmula usa
3
Variáveis
Variáveis Usadas
Eficiência de injeção de emissor
- A eficiência de injeção do emissor é a razão entre a corrente de elétrons que flui no emissor e a corrente total através da junção da base do emissor.
Doping no lado N
-
(Medido em 1 por metro cúbico)
- A dopagem no lado N refere-se ao processo de introdução de tipos específicos de impurezas na região semicondutora do tipo N de um dispositivo semicondutor.
Doping no lado P
-
(Medido em 1 por metro cúbico)
- Dopagem no lado P refere-se ao processo de introdução de tipos específicos de impurezas na região semicondutora do tipo P de um dispositivo semicondutor.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Doping no lado N:
4.8 1 por centímetro cúbico --> 4800000 1 por metro cúbico
(Verifique a conversão
aqui
)
Doping no lado P:
1.8 1 por centímetro cúbico --> 1800000 1 por metro cúbico
(Verifique a conversão
aqui
)
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
γ = N
dn
/(N
dn
+N
dp
) -->
4800000/(4800000+1800000)
Avaliando ... ...
γ
= 0.727272727272727
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
0.727272727272727 --> Nenhuma conversão necessária
RESPOSTA FINAL
0.727272727272727
≈
0.727273
<--
Eficiência de injeção de emissor
(Cálculo concluído em 00.007 segundos)
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Eficiência de injeção de emissor dadas constantes de dopagem
Créditos
Criado por
banuprakash
Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar
(DSCE)
,
Bangalore
banuprakash criou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!
Verificado por
Santosh Yadav
Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar
(DSCE)
,
Banglore
Santosh Yadav verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!
<
Fabricação de CI bipolar Calculadoras
Condutividade do Tipo N
LaTeX
Vai
Condutividade Ohmica
=
Cobrar
*(
Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica
*
Concentração de equilíbrio do tipo N
+
Dopagem de furos Mobilidade de silício
*(
Concentração Intrínseca
^2/
Concentração de equilíbrio do tipo N
))
Condutividade ôhmica da impureza
LaTeX
Vai
Condutividade Ohmica
=
Cobrar
*(
Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica
*
Concentração de Elétrons
+
Dopagem de furos Mobilidade de silício
*
Concentração de Buraco
)
Impureza com Concentração Intrínseca
LaTeX
Vai
Concentração Intrínseca
=
sqrt
((
Concentração de Elétrons
*
Concentração de Buraco
)/
Impureza de temperatura
)
Tensão de ruptura do emissor coletor
LaTeX
Vai
Tensão de ruptura do emissor do coletor
=
Tensão de ruptura da base do coletor
/(
Ganho atual do BJT
)^(1/
Número raiz
)
Ver mais >>
Eficiência de injeção de emissor dadas constantes de dopagem Fórmula
LaTeX
Vai
Eficiência de injeção de emissor
=
Doping no lado N
/(
Doping no lado N
+
Doping no lado P
)
γ
=
N
dn
/(
N
dn
+
N
dp
)
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