Profundidade de foco Calculadora

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Fabricação de IC MOS Fabricação de CI bipolar Gatilho Schmitt

✖O Fator de Proporcionalidade é uma constante que relaciona dois parâmetros fundamentais: a dimensão crítica (CD) e a dose de exposição.ⓘ Fator de Proporcionalidade [k₂]			+10% -10%
✖Comprimento de onda em fotolitografia refere-se à faixa específica de radiação eletromagnética empregada para padronizar wafers semicondutores durante o processo de fabricação de semicondutores.ⓘ Comprimento de onda em fotolitografia [λ_l]			+10% -10%
✖A abertura numérica de um sistema óptico é um parâmetro usado em óptica para descrever a capacidade de um sistema óptico. No contexto da fabricação de semicondutores e fotolitografia.ⓘ Abertura numerica [NA]			+10% -10%

✖A profundidade de foco é um parâmetro crítico que influencia a tolerância a variações na altura do wafer semicondutor.ⓘ Profundidade de foco [DOF]

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Profundidade de foco Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo

Fórmula Usada

Profundidade de foco = Fator de Proporcionalidade*Comprimento de onda em fotolitografia/(Abertura numerica^2)
DOF = k₂*λ_l/(NA^2)
Esta fórmula usa 4 Variáveis

Variáveis Usadas

Profundidade de foco - (Medido em Metro) - A profundidade de foco é um parâmetro crítico que influencia a tolerância a variações na altura do wafer semicondutor.
Fator de Proporcionalidade - O Fator de Proporcionalidade é uma constante que relaciona dois parâmetros fundamentais: a dimensão crítica (CD) e a dose de exposição.
Comprimento de onda em fotolitografia - (Medido em Metro) - Comprimento de onda em fotolitografia refere-se à faixa específica de radiação eletromagnética empregada para padronizar wafers semicondutores durante o processo de fabricação de semicondutores.
Abertura numerica - A abertura numérica de um sistema óptico é um parâmetro usado em óptica para descrever a capacidade de um sistema óptico. No contexto da fabricação de semicondutores e fotolitografia.

ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base

Fator de Proporcionalidade: 3 --> Nenhuma conversão necessária
Comprimento de onda em fotolitografia: 223 Nanômetro --> 2.23E-07 Metro (Verifique a conversão aqui)
Abertura numerica: 0.717 --> Nenhuma conversão necessária

ETAPA 2: Avalie a Fórmula

Substituindo valores de entrada na fórmula

DOF = k₂*λ_l/(NA^2) --> 3*2.23E-07/(0.717^2)

Avaliando ... ...

DOF = 1.30133109247621E-06

PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída

1.30133109247621E-06 Metro -->1.30133109247621 Micrômetro (Verifique a conversão aqui)

RESPOSTA FINAL

1.30133109247621 ≈ 1.301331 Micrômetro <-- Profundidade de foco

(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

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Créditos

Criado por banuprakash

Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore

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Verificado por Santosh Yadav

Faculdade de Engenharia Dayananda Sagar (DSCE), Banglore

Santosh Yadav verificou esta calculadora e mais 50+ calculadoras!

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