Condutividade do Tipo N Solução

ETAPA 0: Resumo de pré-cálculo
Fórmula Usada
Condutividade Ohmica = Cobrar*(Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica*Concentração de equilíbrio do tipo N+Dopagem de furos Mobilidade de silício*(Concentração Intrínseca^2/Concentração de equilíbrio do tipo N))
σ = q*(μn*Nd+μp*(ni^2/Nd))
Esta fórmula usa 6 Variáveis
Variáveis Usadas
Condutividade Ohmica - (Medido em Siemens/Metro) - A condutividade ôhmica é a medida da capacidade do material de passar o fluxo de corrente elétrica. A condutividade elétrica difere de um material para outro.
Cobrar - (Medido em Coulomb) - Carregue uma característica de uma unidade de matéria que expressa até que ponto ela possui mais ou menos elétrons do que prótons.
Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica - (Medido em Metro quadrado por volt por segundo) - A mobilidade do silício com dopagem eletrônica caracteriza a rapidez com que um elétron pode se mover através de um metal ou semicondutor quando puxado por um campo elétrico.
Concentração de equilíbrio do tipo N - (Medido em 1 por metro cúbico) - A concentração de equilíbrio do tipo N é igual à densidade dos átomos doadores porque os elétrons para condução são dados exclusivamente pelo átomo doador.
Dopagem de furos Mobilidade de silício - (Medido em Metro quadrado por volt por segundo) - Hole Doping Silicon Mobility é a capacidade de um buraco viajar através de um metal ou semicondutor na presença de um campo elétrico aplicado.
Concentração Intrínseca - (Medido em 1 por metro cúbico) - Concentração Intrínseca é o número de elétrons na banda de condução ou o número de lacunas na banda de valência no material intrínseco.
ETAPA 1: Converter entrada (s) em unidade de base
Cobrar: 5 Milicoulomb --> 0.005 Coulomb (Verifique a conversão ​aqui)
Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica: 0.38 Centímetro Quadrado por Volt Segundo --> 3.8E-05 Metro quadrado por volt por segundo (Verifique a conversão ​aqui)
Concentração de equilíbrio do tipo N: 45 1 por centímetro cúbico --> 45000000 1 por metro cúbico (Verifique a conversão ​aqui)
Dopagem de furos Mobilidade de silício: 2.4 Centímetro Quadrado por Volt Segundo --> 0.00024 Metro quadrado por volt por segundo (Verifique a conversão ​aqui)
Concentração Intrínseca: 1.32 1 por centímetro cúbico --> 1320000 1 por metro cúbico (Verifique a conversão ​aqui)
ETAPA 2: Avalie a Fórmula
Substituindo valores de entrada na fórmula
σ = q*(μn*Ndp*(ni^2/Nd)) --> 0.005*(3.8E-05*45000000+0.00024*(1320000^2/45000000))
Avaliando ... ...
σ = 8.596464
PASSO 3: Converta o Resultado em Unidade de Saída
8.596464 Siemens/Metro -->0.08596464 Mho/Centímetro (Verifique a conversão ​aqui)
RESPOSTA FINAL
0.08596464 0.085965 Mho/Centímetro <-- Condutividade Ohmica
(Cálculo concluído em 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Criado por Raul Gupta
Universidade de Chandigarh (UC), Mohali, Punjab
Raul Gupta criou esta calculadora e mais 25+ calculadoras!
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Verificado por Ritwik Tripathi
Instituto de Tecnologia de Vellore (VIT Vellore), Vellore
Ritwik Tripathi verificou esta calculadora e mais 100+ calculadoras!

Fabricação de CI bipolar Calculadoras

Condutividade do Tipo N
​ LaTeX ​ Vai Condutividade Ohmica = Cobrar*(Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica*Concentração de equilíbrio do tipo N+Dopagem de furos Mobilidade de silício*(Concentração Intrínseca^2/Concentração de equilíbrio do tipo N))
Condutividade ôhmica da impureza
​ LaTeX ​ Vai Condutividade Ohmica = Cobrar*(Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica*Concentração de Elétrons+Dopagem de furos Mobilidade de silício*Concentração de Buraco)
Impureza com Concentração Intrínseca
​ LaTeX ​ Vai Concentração Intrínseca = sqrt((Concentração de Elétrons*Concentração de Buraco)/Impureza de temperatura)
Tensão de ruptura do emissor coletor
​ LaTeX ​ Vai Tensão de ruptura do emissor do coletor = Tensão de ruptura da base do coletor/(Ganho atual do BJT)^(1/Número raiz)

Condutividade do Tipo N Fórmula

​LaTeX ​Vai
Condutividade Ohmica = Cobrar*(Mobilidade de Silício com Dopagem Eletrônica*Concentração de equilíbrio do tipo N+Dopagem de furos Mobilidade de silício*(Concentração Intrínseca^2/Concentração de equilíbrio do tipo N))
σ = q*(μn*Nd+μp*(ni^2/Nd))
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