Procesowy parametr transkonduktancji PMOS Rozwiązanie

KROK 0: Podsumowanie wstępnych obliczeń
Formułę używana
Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS = Ruchliwość otworów w kanale*Pojemność tlenkowa
k'p = μp*Cox
Ta formuła używa 3 Zmienne
Używane zmienne
Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS - (Mierzone w Siemens) - Parametr procesu transkonduktancji w PMOS (PTM) to parametr używany w modelowaniu urządzeń półprzewodnikowych do charakteryzowania wydajności tranzystora.
Ruchliwość otworów w kanale - (Mierzone w Metr kwadratowy na wolt na sekundę) - Ruchliwość dziur w kanale zależy od różnych czynników, takich jak struktura krystaliczna materiału półprzewodnikowego, obecność zanieczyszczeń, temperatura,
Pojemność tlenkowa - (Mierzone w Farad) - Pojemność tlenkowa jest ważnym parametrem wpływającym na wydajność urządzeń MOS, takim jak szybkość i pobór mocy układów scalonych.
KROK 1: Zamień wejście (a) na jednostkę bazową
Ruchliwość otworów w kanale: 2.66 Metr kwadratowy na wolt na sekundę --> 2.66 Metr kwadratowy na wolt na sekundę Nie jest wymagana konwersja
Pojemność tlenkowa: 0.0008 Farad --> 0.0008 Farad Nie jest wymagana konwersja
KROK 2: Oceń formułę
Zastępowanie wartości wejściowych we wzorze
k'p = μp*Cox --> 2.66*0.0008
Ocenianie ... ...
k'p = 0.002128
KROK 3: Konwertuj wynik na jednostkę wyjścia
0.002128 Siemens -->2.128 Millisiemens (Sprawdź konwersję ​tutaj)
OSTATNIA ODPOWIEDŹ
2.128 Millisiemens <-- Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS
(Obliczenie zakończone za 00.004 sekund)

Kredyty

Creator Image
Stworzone przez Payal Priya
Birsa Institute of Technology (KAWAŁEK), Sindri
Payal Priya utworzył ten kalkulator i 600+ więcej kalkulatorów!
Verifier Image
Zweryfikowane przez Urvi Rathod
Vishwakarma Government Engineering College (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod zweryfikował ten kalkulator i 1900+ więcej kalkulatorów!

Wzmocnienie kanału P Kalkulatory

Prąd spustowy w regionie triody tranzystora PMOS
​ LaTeX ​ Iść Prąd spustowy = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*((Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia))*Napięcie między drenem a źródłem-1/2*(Napięcie między drenem a źródłem)^2)
Prąd drenażowy w regionie triody tranzystora PMOS, biorąc pod uwagę Vsd
​ LaTeX ​ Iść Prąd spustowy = Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(modulus(Efektywne napięcie)-1/2*Napięcie między drenem a źródłem)*Napięcie między drenem a źródłem
Prąd spustowy w regionie nasycenia tranzystora PMOS
​ LaTeX ​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(Napięcie między bramką a źródłem-modulus(Próg napięcia))^2
Prąd odpływowy w regionie nasycenia tranzystora PMOS podanego Vov
​ LaTeX ​ Iść Prąd drenu nasycenia = 1/2*Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS*Współczynnik proporcji*(Efektywne napięcie)^2

Procesowy parametr transkonduktancji PMOS Formułę

​LaTeX ​Iść
Parametr transkonduktancji procesowej w PMOS = Ruchliwość otworów w kanale*Pojemność tlenkowa
k'p = μp*Cox

Do czego służy tranzystor MOSFET?

Tranzystor MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) jest urządzeniem półprzewodnikowym, które jest szeroko stosowane do celów przełączania i do wzmacniania sygnałów elektronicznych w urządzeniach elektronicznych.

Jakie są rodzaje tranzystorów MOSFET?

Istnieją dwie klasy tranzystorów MOSFET. Jest tryb wyczerpywania i tryb ulepszania. Każda klasa jest dostępna jako kanał typu n lub p, co daje łącznie cztery typy tranzystorów MOSFET. Tryb wyczerpania występuje w N lub P, a tryb wzmocnienia w N lub P

Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!