Substraat bias-coëfficiënt Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
Deze formule gebruikt 2 Constanten, 1 Functies, 3 Variabelen
Gebruikte constanten
[Permitivity-silicon] - Permittiviteit van silicium Waarde genomen als 11.7
[Charge-e] - Lading van elektron Waarde genomen als 1.60217662E-19
Functies die worden gebruikt
sqrt - Een vierkantswortelfunctie is een functie die een niet-negatief getal als invoer neemt en de vierkantswortel van het opgegeven invoergetal retourneert., sqrt(Number)
Variabelen gebruikt
Substraat bias-coëfficiënt - Substrate Bias Coefficient is een parameter die wordt gebruikt bij het modelleren van MOSFET-apparaten (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor).
Dopingconcentratie van acceptor - (Gemeten in Elektronen per kubieke meter) - Dopingconcentratie van acceptor verwijst naar de concentratie van acceptoratomen die opzettelijk aan een halfgeleidermateriaal zijn toegevoegd.
Oxidecapaciteit - (Gemeten in Farad) - Oxidecapaciteit verwijst naar de capaciteit die is geassocieerd met de isolerende oxidelaag in een metaaloxide-halfgeleiderstructuur (MOS), zoals in MOSFET's.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Dopingconcentratie van acceptor: 1.32 Elektronen per kubieke centimeter --> 1320000 Elektronen per kubieke meter (Bekijk de conversie ​hier)
Oxidecapaciteit: 3.9 Farad --> 3.9 Farad Geen conversie vereist
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox --> sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*1320000)/3.9
Evalueren ... ...
γs = 5.70407834987726E-07
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
5.70407834987726E-07 --> Geen conversie vereist
DEFINITIEVE ANTWOORD
5.70407834987726E-07 5.7E-7 <-- Substraat bias-coëfficiënt
(Berekening voltooid in 00.004 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door banuprakash
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Bangalore
banuprakash heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 50+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Dipanjona Mallick
Erfgoedinstituut voor technologie (HITK), Calcutta
Dipanjona Mallick heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 50+ rekenmachines!

MOS-transistor Rekenmachines

Equivalentiefactor voor zijwandspanning
​ LaTeX ​ Gaan Equivalentiefactor voor zijwandspanning = -(2*sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen)/(Eindspanning-Initiële spanning)*(sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Eindspanning)-sqrt(Ingebouwd potentieel van zijwandverbindingen-Initiële spanning)))
Fermi-potentieel voor P-type
​ LaTeX ​ Gaan Fermi-potentieel voor P-type = ([BoltZ]*Absolute temperatuur)/[Charge-e]*ln(Intrinsieke dragerconcentratie/Dopingconcentratie van acceptor)
Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit
​ LaTeX ​ Gaan Equivalente grote signaalverbindingscapaciteit = Omtrek van zijwand*Zijwandverbindingscapaciteit*Equivalentiefactor voor zijwandspanning
Nul bias zijwandverbindingscapaciteit per lengte-eenheid
​ LaTeX ​ Gaan Zijwandverbindingscapaciteit = Zero Bias zijwandverbindingspotentieel*Diepte van zijwand

Substraat bias-coëfficiënt Formule

​LaTeX ​Gaan
Substraat bias-coëfficiënt = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Dopingconcentratie van acceptor)/Oxidecapaciteit
γs = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA)/Cox
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!