Geleidbaarheid van N-type Oplossing

STAP 0: Samenvatting voorberekening
Formule gebruikt
Ohmse geleidbaarheid = Aanval*(Elektronendoping Siliciummobiliteit*Evenwichtsconcentratie van N-type+Hole Doping Siliciummobiliteit*(Intrinsieke concentratie^2/Evenwichtsconcentratie van N-type))
σ = q*(μn*Nd+μp*(ni^2/Nd))
Deze formule gebruikt 6 Variabelen
Variabelen gebruikt
Ohmse geleidbaarheid - (Gemeten in Siemens/Meter) - Ohmse geleidbaarheid is de maatstaf voor het vermogen van het materiaal om de stroom van elektrische stroom door te laten. De elektrische geleidbaarheid verschilt van materiaal tot materiaal.
Aanval - (Gemeten in Coulomb) - Lading Een kenmerk van een eenheid materie die uitdrukt in welke mate deze meer of minder elektronen heeft dan protonen.
Elektronendoping Siliciummobiliteit - (Gemeten in Vierkante meter per volt per seconde) - Elektronendoping Siliciummobiliteit karakteriseert hoe snel een elektron door een metaal of halfgeleider kan bewegen wanneer het door een elektrisch veld wordt getrokken.
Evenwichtsconcentratie van N-type - (Gemeten in 1 per kubieke meter) - De evenwichtsconcentratie van het N-type is gelijk aan de dichtheid van donoratomen, omdat de elektronen voor geleiding uitsluitend door het donoratoom worden gegeven.
Hole Doping Siliciummobiliteit - (Gemeten in Vierkante meter per volt per seconde) - Gatendoping Siliciummobiliteit is het vermogen van een gat om zich door een metaal of halfgeleider te verplaatsen in aanwezigheid van een aangelegd elektrisch veld.
Intrinsieke concentratie - (Gemeten in 1 per kubieke meter) - Intrinsieke concentratie is het aantal elektronen in de geleidingsband of het aantal gaten in de valentieband in intrinsiek materiaal.
STAP 1: converteer ingang (en) naar basiseenheid
Aanval: 5 Millicoulomb --> 0.005 Coulomb (Bekijk de conversie ​hier)
Elektronendoping Siliciummobiliteit: 0.38 Vierkante centimeter per volt seconde --> 3.8E-05 Vierkante meter per volt per seconde (Bekijk de conversie ​hier)
Evenwichtsconcentratie van N-type: 45 1 per kubieke centimeter --> 45000000 1 per kubieke meter (Bekijk de conversie ​hier)
Hole Doping Siliciummobiliteit: 2.4 Vierkante centimeter per volt seconde --> 0.00024 Vierkante meter per volt per seconde (Bekijk de conversie ​hier)
Intrinsieke concentratie: 1.32 1 per kubieke centimeter --> 1320000 1 per kubieke meter (Bekijk de conversie ​hier)
STAP 2: Evalueer de formule
Invoerwaarden in formule vervangen
σ = q*(μn*Ndp*(ni^2/Nd)) --> 0.005*(3.8E-05*45000000+0.00024*(1320000^2/45000000))
Evalueren ... ...
σ = 8.596464
STAP 3: converteer het resultaat naar de eenheid van de uitvoer
8.596464 Siemens/Meter -->0.08596464 Mho/Centimeter (Bekijk de conversie ​hier)
DEFINITIEVE ANTWOORD
0.08596464 0.085965 Mho/Centimeter <-- Ohmse geleidbaarheid
(Berekening voltooid in 00.004 seconden)

Credits

Creator Image
Gemaakt door Rahul Gupta
Chandigarh Universiteit (CU), Mohali, Punjab
Rahul Gupta heeft deze rekenmachine gemaakt en nog 25+ meer rekenmachines!
Verifier Image
Geverifieërd door Ritwik Tripathi
Vellore Instituut voor Technologie (VIT Vellore), Vellore
Ritwik Tripathi heeft deze rekenmachine geverifieerd en nog 100+ rekenmachines!

Bipolaire IC-fabricage Rekenmachines

Geleidbaarheid van N-type
​ LaTeX ​ Gaan Ohmse geleidbaarheid = Aanval*(Elektronendoping Siliciummobiliteit*Evenwichtsconcentratie van N-type+Hole Doping Siliciummobiliteit*(Intrinsieke concentratie^2/Evenwichtsconcentratie van N-type))
Ohmse geleidbaarheid van onzuiverheid
​ LaTeX ​ Gaan Ohmse geleidbaarheid = Aanval*(Elektronendoping Siliciummobiliteit*Elektronenconcentratie+Hole Doping Siliciummobiliteit*Gatenconcentratie)
Onzuiverheid met intrinsieke concentratie
​ LaTeX ​ Gaan Intrinsieke concentratie = sqrt((Elektronenconcentratie*Gatenconcentratie)/Temperatuuronzuiverheid)
Doorbraakspanning van collector-emitter
​ LaTeX ​ Gaan Collector-emitter doorbraakspanning = Collectorbasis doorbraakspanning/(Huidige winst van BJT)^(1/Wortelnummer)

Geleidbaarheid van N-type Formule

​LaTeX ​Gaan
Ohmse geleidbaarheid = Aanval*(Elektronendoping Siliciummobiliteit*Evenwichtsconcentratie van N-type+Hole Doping Siliciummobiliteit*(Intrinsieke concentratie^2/Evenwichtsconcentratie van N-type))
σ = q*(μn*Nd+μp*(ni^2/Nd))
Let Others Know
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!