Profondità di svuotamento della giunzione PN con drenaggio VLSI Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentrazione dell'accettore))*(Tensione incorporata di giunzione+Drenare al potenziale di origine))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
Questa formula utilizza 3 Costanti, 1 Funzioni, 4 Variabili
Costanti utilizzate
[Permitivity-silicon] - Permittività del silicio Valore preso come 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permittività del vuoto Valore preso come 8.85E-12
[Charge-e] - Carica dell'elettrone Valore preso come 1.60217662E-19
Funzioni utilizzate
sqrt - Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato., sqrt(Number)
Variabili utilizzate
Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio - (Misurato in Metro) - La profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio è definita come l'estensione della regione di svuotamento nel materiale semiconduttore vicino al terminale di drenaggio.
Concentrazione dell'accettore - (Misurato in 1 per metro cubo) - La concentrazione dell'accettore si riferisce alla concentrazione degli atomi droganti dell'accettore in un materiale semiconduttore.
Tensione incorporata di giunzione - (Misurato in Volt) - La tensione incorporata nella giunzione è definita come la tensione che esiste attraverso una giunzione del semiconduttore in equilibrio termico, dove non viene applicata alcuna tensione esterna.
Drenare al potenziale di origine - (Misurato in Volt) - Il potenziale dal drenaggio alla sorgente è il potenziale tra il drenaggio e la sorgente.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Concentrazione dell'accettore: 1E+16 1 per centimetro cubo --> 1E+22 1 per metro cubo (Controlla la conversione ​qui)
Tensione incorporata di giunzione: 0.76 Volt --> 0.76 Volt Nessuna conversione richiesta
Drenare al potenziale di origine: 1.45 Volt --> 1.45 Volt Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds)) --> sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*1E+22))*(0.76+1.45))
Valutare ... ...
xdD = 5.34466520692296E-07
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
5.34466520692296E-07 Metro -->0.534466520692296 Micrometro (Controlla la conversione ​qui)
RISPOSTA FINALE
0.534466520692296 0.534467 Micrometro <-- Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da Priyanka Patel
Facoltà di ingegneria Lalbhai Dalpatbhai (LDCE), Ahmedabad
Priyanka Patel ha creato questa calcolatrice e altre 25+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

Ottimizzazione dei materiali VLSI Calcolatrici

Coefficiente di effetto corporeo
​ Partire Coefficiente di effetto corporeo = modulus((Soglia di voltaggio-Tensione di soglia DIBL)/(sqrt(Potenziale di superficie+(Differenza di potenziale del corpo sorgente))-sqrt(Potenziale di superficie)))
Coefficiente DIBL
​ Partire Coefficiente DIBL = (Tensione di soglia DIBL-Soglia di voltaggio)/Drenare al potenziale di origine
Channel Charge
​ Partire Carica del canale = Capacità del cancello*(Voltaggio da gate a canale-Soglia di voltaggio)
Tensione critica
​ Partire Tensione critica = Campo elettrico critico*Campo elettrico attraverso la lunghezza del canale

Profondità di svuotamento della giunzione PN con drenaggio VLSI Formula

Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentrazione dell'accettore))*(Tensione incorporata di giunzione+Drenare al potenziale di origine))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
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