Spessore equivalente dell'ossido Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo
Formula utilizzata
Spessore equivalente dell'ossido = Spessore del materiale*(3.9/Costante dielettrica del materiale)
EOT = thigh-k*(3.9/khigh-k)
Questa formula utilizza 3 Variabili
Variabili utilizzate
Spessore equivalente dell'ossido - (Misurato in Metro) - Lo spessore equivalente dell'ossido è una misura utilizzata nella tecnologia dei semiconduttori per caratterizzare le proprietà isolanti di un dielettrico di gate in un dispositivo a semiconduttore a ossido di metallo (MOS).
Spessore del materiale - (Misurato in Metro) - Lo spessore del materiale è lo spessore del materiale specificato. Si riferisce alla dimensione fisica di un oggetto misurata perpendicolarmente alla sua superficie.
Costante dielettrica del materiale - La costante dielettrica del materiale è una misura della capacità di un materiale di immagazzinare energia elettrica in un campo elettrico.
PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base
Spessore del materiale: 8.5 Nanometro --> 8.5E-09 Metro (Controlla la conversione ​qui)
Costante dielettrica del materiale: 2.26 --> Nessuna conversione richiesta
FASE 2: valutare la formula
Sostituzione dei valori di input nella formula
EOT = thigh-k*(3.9/khigh-k) --> 8.5E-09*(3.9/2.26)
Valutare ... ...
EOT = 1.46681415929204E-08
PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output
1.46681415929204E-08 Metro -->14.6681415929204 Nanometro (Controlla la conversione ​qui)
RISPOSTA FINALE
14.6681415929204 14.66814 Nanometro <-- Spessore equivalente dell'ossido
(Calcolo completato in 00.004 secondi)

Titoli di coda

Creator Image
Creato da banuprakash
Dayananda Sagar College di Ingegneria (DSCE), Bangalore
banuprakash ha creato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!
Verifier Image
Verificato da Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

Fabbricazione di circuiti integrati MOS Calcolatrici

Effetto corpo nel MOSFET
​ LaTeX ​ Partire Tensione di soglia con substrato = Tensione di soglia con zero body bias+Parametro dell'effetto corporeo*(sqrt(2*Potenziale di Fermi in massa+Tensione applicata al corpo)-sqrt(2*Potenziale di Fermi in massa))
Corrente di drenaggio del MOSFET nella regione di saturazione
​ LaTeX ​ Partire Assorbimento di corrente = Parametro di transconduttanza/2*(Tensione della sorgente di gate-Tensione di soglia con zero body bias)^2*(1+Fattore di modulazione della lunghezza del canale*Tensione della sorgente di drenaggio)
Resistenza del canale
​ LaTeX ​ Partire Resistenza del canale = Lunghezza del transistor/Larghezza del transistor*1/(Mobilità elettronica*Densità del portatore)
Frequenza di guadagno unitario MOSFET
​ LaTeX ​ Partire Frequenza di guadagno unitario nel MOSFET = Transconduttanza nei MOSFET/(Capacità della sorgente di gate+Capacità di scarico del cancello)

Spessore equivalente dell'ossido Formula

​LaTeX ​Partire
Spessore equivalente dell'ossido = Spessore del materiale*(3.9/Costante dielettrica del materiale)
EOT = thigh-k*(3.9/khigh-k)
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