✖La mobilità dei fori nel canale dipende da vari fattori come la struttura cristallina del materiale semiconduttore, la presenza di impurità, la temperatura,ⓘ Mobilità dei fori nel canale [μp] | | | +10% -10% |
✖La componente orizzontale del campo elettrico nel canale è l'intensità del campo elettrico esistente nel materiale sotto lo strato di ossido di gate, nella regione in cui si forma lo strato di inversione.ⓘ Componente orizzontale del campo elettrico nel canale [Ey] | | | +10% -10% |