MCD di due numeri

Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI calcolatrice

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Ottimizzazione dei materiali VLSI Progettazione VLSI analogica

✖Estensione laterale della regione di svuotamento con la sorgente la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di sorgente in un dispositivo a semiconduttore.ⓘ Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente [ΔL_s]			+10% -10%
✖Estensione laterale della regione di svuotamento con drenaggio la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di drenaggio in un dispositivo a semiconduttore.ⓘ Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio [ΔL_D]			+10% -10%
✖La lunghezza del canale si riferisce alla lunghezza fisica del materiale semiconduttore tra i terminali di source e drain all'interno della struttura del transistor.ⓘ Lunghezza del canale [L]			+10% -10%
✖La concentrazione dell'accettore si riferisce alla concentrazione degli atomi droganti dell'accettore in un materiale semiconduttore.ⓘ Concentrazione dell'accettore [N_A]			+10% -10%
✖Il potenziale superficiale è un parametro chiave nella valutazione delle proprietà CC dei transistor a film sottile.ⓘ Potenziale di superficie [Φ_s]			+10% -10%

✖La densità di carica della regione di svuotamento di massa è definita come la carica elettrica per unità di area associata alla regione di svuotamento nella massa di un dispositivo a semiconduttore.ⓘ Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI [Q_B0]

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Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI Soluzione

FASE 0: Riepilogo pre-calcolo

Formula utilizzata

Densità di carica della regione di esaurimento di massa = -(1-((Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente+Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio)/(2*Lunghezza del canale)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie))
Q_B0 = -(1-((ΔL_s+ΔL_D)/(2*L)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*N_A*abs(2*Φ_s))
Questa formula utilizza 3 Costanti, 2 Funzioni, 6 Variabili

Costanti utilizzate

[Permitivity-silicon] - Permittività del silicio Valore preso come 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permittività del vuoto Valore preso come 8.85E-12
[Charge-e] - Carica dell'elettrone Valore preso come 1.60217662E-19

Funzioni utilizzate

sqrt - Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato., sqrt(Number)
abs - Il valore assoluto di un numero è la sua distanza da zero sulla retta numerica. È sempre un valore positivo, poiché rappresenta la grandezza di un numero senza considerare la sua direzione., abs(Number)

Variabili utilizzate

Densità di carica della regione di esaurimento di massa - (Misurato in Coulomb per metro quadrato) - La densità di carica della regione di svuotamento di massa è definita come la carica elettrica per unità di area associata alla regione di svuotamento nella massa di un dispositivo a semiconduttore.
Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente - (Misurato in Metro) - Estensione laterale della regione di svuotamento con la sorgente la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di sorgente in un dispositivo a semiconduttore.
Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio - (Misurato in Metro) - Estensione laterale della regione di svuotamento con drenaggio la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di drenaggio in un dispositivo a semiconduttore.
Lunghezza del canale - (Misurato in Metro) - La lunghezza del canale si riferisce alla lunghezza fisica del materiale semiconduttore tra i terminali di source e drain all'interno della struttura del transistor.
Concentrazione dell'accettore - (Misurato in 1 per metro cubo) - La concentrazione dell'accettore si riferisce alla concentrazione degli atomi droganti dell'accettore in un materiale semiconduttore.
Potenziale di superficie - (Misurato in Volt) - Il potenziale superficiale è un parametro chiave nella valutazione delle proprietà CC dei transistor a film sottile.

PASSAGGIO 1: conversione degli ingressi in unità di base

Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente: 0.1 Micrometro --> 1E-07 Metro (Controlla la conversione qui)
Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio: 0.2 Micrometro --> 2E-07 Metro (Controlla la conversione qui)
Lunghezza del canale: 2.5 Micrometro --> 2.5E-06 Metro (Controlla la conversione qui)
Concentrazione dell'accettore: 1E+16 1 per centimetro cubo --> 1E+22 1 per metro cubo (Controlla la conversione qui)
Potenziale di superficie: 6.86 Volt --> 6.86 Volt Nessuna conversione richiesta

FASE 2: valutare la formula

Sostituzione dei valori di input nella formula

Q_B0 = -(1-((ΔL_s+ΔL_D)/(2*L)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*N_A*abs(2*Φ_s)) --> -(1-((1E-07+2E-07)/(2*2.5E-06)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86))

Valutare ... ...

Q_B0 = -0.00200557851391776

PASSAGGIO 3: conversione del risultato nell'unità di output

-0.00200557851391776 Coulomb per metro quadrato -->-0.200557851391776 Microcoulomb per centimetro quadrato (Controlla la conversione qui)

RISPOSTA FINALE

-0.200557851391776 ≈ -0.200558 Microcoulomb per centimetro quadrato <-- Densità di carica della regione di esaurimento di massa

(Calcolo completato in 00.004 secondi)

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Titoli di coda

Creato da Priyanka Patel

Facoltà di ingegneria Lalbhai Dalpatbhai (LDCE), Ahmedabad

Priyanka Patel ha creato questa calcolatrice e altre 25+ altre calcolatrici!

Verificato da Santhosh Yadav

Dayananda Sagar College of Engineering (DSCE), Banglore

Santhosh Yadav ha verificato questa calcolatrice e altre 50+ altre calcolatrici!

< Ottimizzazione dei materiali VLSI Calcolatrici

Coefficiente di effetto corporeo

LaTeX Partire Coefficiente di effetto corporeo = modulus((Soglia di voltaggio-Tensione di soglia DIBL)/(sqrt(Potenziale di superficie+(Differenza di potenziale del corpo sorgente))-sqrt(Potenziale di superficie)))

Coefficiente DIBL

LaTeX Partire Coefficiente DIBL = (Tensione di soglia DIBL-Soglia di voltaggio)/Drenare al potenziale di origine

Channel Charge

LaTeX Partire Carica del canale = Capacità del cancello*(Voltaggio da gate a canale-Soglia di voltaggio)

Tensione critica

LaTeX Partire Tensione critica = Campo elettrico critico*Campo elettrico attraverso la lunghezza del canale

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