✖La largeur du canal est définie comme la largeur physique du canal semi-conducteur entre les bornes source et drain au sein de la structure du transistor.ⓘ Largeur de canal [Wc] | | | +10% -10% |
✖La vitesse de dérive des électrons de saturation est définie comme la vitesse maximale atteinte par les électrons dans un matériau semi-conducteur sous l’influence d’un champ électrique.ⓘ Vitesse de dérive des électrons de saturation [vd(sat)] | | | +10% -10% |
✖La capacité d'oxyde par unité de surface est définie comme la capacité par unité de surface de la couche d'oxyde isolante qui sépare la grille métallique du matériau semi-conducteur.ⓘ Capacité d'oxyde par unité de surface [Coxide] | | | +10% -10% |
✖La tension drain-source de saturation est définie comme la tension aux bornes du drain et de la source d'un MOSFET lorsque le transistor fonctionne en mode saturation.ⓘ Tension de source de drain de saturation [VDsat] | | | +10% -10% |