Paramètre de transconductance de processus de PMOS Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Paramètre de transconductance de processus dans PMOS = Mobilité des trous dans le canal*Capacité d'oxyde
k'p = μp*Cox
Cette formule utilise 3 Variables
Variables utilisées
Paramètre de transconductance de processus dans PMOS - (Mesuré en Siemens) - Le paramètre de transconductance de processus dans PMOS (PTM) est un paramètre utilisé dans la modélisation de dispositifs semi-conducteurs pour caractériser les performances d'un transistor.
Mobilité des trous dans le canal - (Mesuré en Mètre carré par volt par seconde) - La mobilité des trous dans le canal dépend de divers facteurs tels que la structure cristalline du matériau semi-conducteur, la présence d'impuretés, la température,
Capacité d'oxyde - (Mesuré en Farad) - La capacité d'oxyde est un paramètre important qui affecte les performances des dispositifs MOS, tels que la vitesse et la consommation d'énergie des circuits intégrés.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Mobilité des trous dans le canal: 2.66 Mètre carré par volt par seconde --> 2.66 Mètre carré par volt par seconde Aucune conversion requise
Capacité d'oxyde: 0.0008 Farad --> 0.0008 Farad Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
k'p = μp*Cox --> 2.66*0.0008
Évaluer ... ...
k'p = 0.002128
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
0.002128 Siemens -->2.128 millisiemens (Vérifiez la conversion ​ici)
RÉPONSE FINALE
2.128 millisiemens <-- Paramètre de transconductance de processus dans PMOS
(Calcul effectué en 00.004 secondes)

Crédits

Creator Image
Créé par Payal Priya
Institut de technologie de Birsa (BIT), Sindri
Payal Priya a créé cette calculatrice et 600+ autres calculatrices!
Verifier Image
Vérifié par Urvi Rathod
Collège d'ingénierie du gouvernement de Vishwakarma (VGEC), Ahmedabad
Urvi Rathod a validé cette calculatrice et 1900+ autres calculatrices!

Amélioration du canal P Calculatrices

Courant de drain dans la région triode du transistor PMOS
​ LaTeX ​ Aller Courant de vidange = Paramètre de transconductance de processus dans PMOS*Ratio d'aspect*((Tension entre la porte et la source-modulus(Tension de seuil))*Tension entre drain et source-1/2*(Tension entre drain et source)^2)
Courant de drain dans la région triode du transistor PMOS donné Vsd
​ LaTeX ​ Aller Courant de vidange = Paramètre de transconductance de processus dans PMOS*Ratio d'aspect*(modulus(Tension efficace)-1/2*Tension entre drain et source)*Tension entre drain et source
Courant de drain dans la région de saturation du transistor PMOS
​ LaTeX ​ Aller Courant de drain de saturation = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans PMOS*Ratio d'aspect*(Tension entre la porte et la source-modulus(Tension de seuil))^2
Courant de drain dans la région de saturation du transistor PMOS donné Vov
​ LaTeX ​ Aller Courant de drain de saturation = 1/2*Paramètre de transconductance de processus dans PMOS*Ratio d'aspect*(Tension efficace)^2

Paramètre de transconductance de processus de PMOS Formule

​LaTeX ​Aller
Paramètre de transconductance de processus dans PMOS = Mobilité des trous dans le canal*Capacité d'oxyde
k'p = μp*Cox

À quoi sert un MOSFET?

Le transistor MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) est un dispositif semi-conducteur largement utilisé à des fins de commutation et pour l'amplification de signaux électroniques dans les appareils électroniques.

Quels sont les types de MOSFET?

Il existe deux classes de MOSFET. Il existe un mode d'épuisement et un mode d'amélioration. Chaque classe est disponible sous forme de canal n ou p, ce qui donne un total de quatre types de MOSFET. Le mode d'épuisement vient dans un N ou un P et un mode d'amélioration vient dans un N ou un P

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