Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tension intégrée de jonction)/([Charge-e]*Concentration d'accepteur))
xdS = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Ø0)/([Charge-e]*NA))
Cette formule utilise 3 Constantes, 1 Les fonctions, 3 Variables
Constantes utilisées
[Permitivity-silicon] - Permittivité du silicium Valeur prise comme 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permittivité du vide Valeur prise comme 8.85E-12
[Charge-e] - Charge d'électron Valeur prise comme 1.60217662E-19
Fonctions utilisées
sqrt - Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné., sqrt(Number)
Variables utilisées
Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source - (Mesuré en Mètre) - La profondeur d'épuisement de la jonction Pn avec source est définie comme la région autour d'une jonction pn où les porteurs de charge ont été épuisés en raison de la formation d'un champ électrique.
Tension intégrée de jonction - (Mesuré en Volt) - La tension intégrée de jonction est définie comme la tension qui existe aux bornes d’une jonction semi-conductrice en équilibre thermique, où aucune tension externe n’est appliquée.
Concentration d'accepteur - (Mesuré en 1 par mètre cube) - La concentration d'accepteur fait référence à la concentration d'atomes de dopant accepteur dans un matériau semi-conducteur.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Tension intégrée de jonction: 0.76 Volt --> 0.76 Volt Aucune conversion requise
Concentration d'accepteur: 1E+16 1 par centimètre cube --> 1E+22 1 par mètre cube (Vérifiez la conversion ​ici)
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
xdS = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Ø0)/([Charge-e]*NA)) --> sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*0.76)/([Charge-e]*1E+22))
Évaluer ... ...
xdS = 3.13423217933622E-07
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
3.13423217933622E-07 Mètre -->0.313423217933622 Micromètre (Vérifiez la conversion ​ici)
RÉPONSE FINALE
0.313423217933622 0.313423 Micromètre <-- Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source
(Calcul effectué en 00.004 secondes)

Crédits

Creator Image
Créé par Priyanka Patel
Collège d'ingénierie Lalbhai Dalpatbhai (PEMD), Ahmedabad
Priyanka Patel a créé cette calculatrice et 25+ autres calculatrices!
Verifier Image
Vérifié par Santhosh Yadav
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Banglore
Santhosh Yadav a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!

Optimisation des matériaux VLSI Calculatrices

Coefficient d'effet corporel
​ Aller Coefficient d'effet corporel = modulus((Tension de seuil-Tension de seuil DIBL)/(sqrt(Potentiel des surfaces+(Différence potentielle du corps source))-sqrt(Potentiel des surfaces)))
Coefficient DIBL
​ Aller Coefficient DIBL = (Tension de seuil DIBL-Tension de seuil)/Potentiel de drainage vers la source
Charge de canal
​ Aller Frais de canal = Capacité de porte*(Tension porte à canal-Tension de seuil)
Tension critique
​ Aller Tension critique = Champ électrique critique*Champ électrique sur toute la longueur du canal

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Formule

Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tension intégrée de jonction)/([Charge-e]*Concentration d'accepteur))
xdS = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Ø0)/([Charge-e]*NA))
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