✖Le paramètre de transconductance de processus dans PMOS (PTM) est un paramètre utilisé dans la modélisation de dispositifs semi-conducteurs pour caractériser les performances d'un transistor.ⓘ Paramètre de transconductance de processus dans PMOS [k'p] | | | +10% -10% |
✖Le rapport d'aspect est défini comme le rapport de la largeur du canal du transistor à sa longueur. C'est le rapport entre la largeur de la porte et la distance entre la sourceⓘ Ratio d'aspect [WL] | | | +10% -10% |
✖La tension entre grille et source d'un transistor à effet de champ (FET) est appelée tension grille-source (VGS). C'est un paramètre important qui affecte le fonctionnement du FET.ⓘ Tension entre la porte et la source [VGS] | | | +10% -10% |
✖La tension de seuil, également connue sous le nom de tension de seuil de grille ou simplement Vth, est un paramètre critique dans le fonctionnement des transistors à effet de champ, qui sont des composants fondamentaux de l'électronique moderne.ⓘ Tension de seuil [VT] | | | +10% -10% |
✖La tension entre le drain et la source est un paramètre clé dans le fonctionnement d'un transistor à effet de champ (FET) et est souvent appelée « tension drain-source » ou VDS.ⓘ Tension entre drain et source [VDS] | | | +10% -10% |
✖La tension initiale dépend entièrement de la technologie du processus, avec les dimensions de volts par micron.ⓘ Tension précoce [Va] | | | +10% -10% |