Conductivité ohmique des impuretés Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'électrons+Mobilité du silicium dopé par trous*Concentration des trous)
σ = q*(μn*ne+μp*p)
Cette formule utilise 6 Variables
Variables utilisées
Conductivité Ohmique - (Mesuré en Siemens / mètre) - La conductivité ohmique est la mesure de la capacité d'un matériau à laisser passer le courant électrique. La conductivité électrique diffère d'un matériau à l'autre.
Charge - (Mesuré en Coulomb) - Charge une caractéristique d'une unité de matière qui exprime la mesure dans laquelle elle possède plus ou moins d'électrons que de protons.
Mobilité du silicium dopé électroniquement - (Mesuré en Mètre carré par volt par seconde) - La mobilité du silicium par dopage électronique caractérise la rapidité avec laquelle un électron peut se déplacer à travers un métal ou un semi-conducteur lorsqu'il est attiré par un champ électrique.
Concentration d'électrons - (Mesuré en 1 par mètre cube) - La concentration électronique est influencée par divers facteurs tels que la température, les impuretés ou les dopants ajoutés au matériau semi-conducteur et les champs électriques ou magnétiques externes.
Mobilité du silicium dopé par trous - (Mesuré en Mètre carré par volt par seconde) - La mobilité du silicium dopé par trou est la capacité d'un trou à traverser un métal ou un semi-conducteur en présence d'un champ électrique appliqué.
Concentration des trous - (Mesuré en 1 par mètre cube) - La concentration de trous implique un plus grand nombre de porteurs de charge disponibles dans le matériau, affectant sa conductivité et divers dispositifs semi-conducteurs.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Charge: 5 Millicoulomb --> 0.005 Coulomb (Vérifiez la conversion ​ici)
Mobilité du silicium dopé électroniquement: 0.38 Centimètre carré par volt seconde --> 3.8E-05 Mètre carré par volt par seconde (Vérifiez la conversion ​ici)
Concentration d'électrons: 50.6 1 par centimètre cube --> 50600000 1 par mètre cube (Vérifiez la conversion ​ici)
Mobilité du silicium dopé par trous: 2.4 Centimètre carré par volt seconde --> 0.00024 Mètre carré par volt par seconde (Vérifiez la conversion ​ici)
Concentration des trous: 0.69 1 par centimètre cube --> 690000 1 par mètre cube (Vérifiez la conversion ​ici)
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
σ = q*(μn*nep*p) --> 0.005*(3.8E-05*50600000+0.00024*690000)
Évaluer ... ...
σ = 10.442
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
10.442 Siemens / mètre -->0.10442 Mho / Centimètre (Vérifiez la conversion ​ici)
RÉPONSE FINALE
0.10442 Mho / Centimètre <-- Conductivité Ohmique
(Calcul effectué en 00.020 secondes)

Crédits

Creator Image
Créé par Rahul Gupta
Université de Chandigarh (UC), Mohali, Pendjab
Rahul Gupta a créé cette calculatrice et 25+ autres calculatrices!
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Vérifié par Parminder Singh
Université de Chandigarh (UC), Pendjab
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Conductivité de type N
​ LaTeX ​ Aller Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'équilibre de type N+Mobilité du silicium dopé par trous*(Concentration intrinsèque^2/Concentration d'équilibre de type N))
Conductivité ohmique des impuretés
​ LaTeX ​ Aller Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'électrons+Mobilité du silicium dopé par trous*Concentration des trous)
Impureté à concentration intrinsèque
​ LaTeX ​ Aller Concentration intrinsèque = sqrt((Concentration d'électrons*Concentration des trous)/Impureté de température)
Tension de rupture de l'émetteur collecteur
​ LaTeX ​ Aller Tension de rupture du collecteur et de l'émetteur = Tension de rupture de la base du collecteur/(Gain actuel du BJT)^(1/Numéro racine)

Conductivité ohmique des impuretés Formule

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Conductivité Ohmique = Charge*(Mobilité du silicium dopé électroniquement*Concentration d'électrons+Mobilité du silicium dopé par trous*Concentration des trous)
σ = q*(μn*ne+μp*p)
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