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Épaisseur d'oxyde de grille après mise à l'échelle complète du VLSI Calculatrice

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✖L'épaisseur de l'oxyde de grille est définie comme l'épaisseur de la couche isolante (oxyde) qui sépare l'électrode de grille du substrat semi-conducteur dans un MOSFET.ⓘ Épaisseur d'oxyde de porte [t_ox]			+10% -10%
✖Le facteur d'échelle est défini comme le rapport selon lequel les dimensions du transistor sont modifiées au cours du processus de conception.ⓘ Facteur d'échelle [Sf]			+10% -10%

✖L'épaisseur de l'oxyde de grille après mise à l'échelle complète est définie comme la nouvelle épaisseur de la couche d'oxyde après réduction des dimensions du transistor en maintenant le champ électrique constant.ⓘ Épaisseur d'oxyde de grille après mise à l'échelle complète du VLSI [t_ox']

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Épaisseur d'oxyde de grille après mise à l'échelle complète du VLSI Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul

Formule utilisée

Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète = Épaisseur d'oxyde de porte/Facteur d'échelle
t_ox' = t_ox/Sf
Cette formule utilise 3 Variables

Variables utilisées

Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète - (Mesuré en Mètre) - L'épaisseur de l'oxyde de grille après mise à l'échelle complète est définie comme la nouvelle épaisseur de la couche d'oxyde après réduction des dimensions du transistor en maintenant le champ électrique constant.
Épaisseur d'oxyde de porte - (Mesuré en Mètre) - L'épaisseur de l'oxyde de grille est définie comme l'épaisseur de la couche isolante (oxyde) qui sépare l'électrode de grille du substrat semi-conducteur dans un MOSFET.
Facteur d'échelle - Le facteur d'échelle est défini comme le rapport selon lequel les dimensions du transistor sont modifiées au cours du processus de conception.

ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base

Épaisseur d'oxyde de porte: 2 Nanomètre --> 2E-09 Mètre (Vérifiez la conversion ici)
Facteur d'échelle: 1.5 --> Aucune conversion requise

ÉTAPE 2: Évaluer la formule

Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule

t_ox' = t_ox/Sf --> 2E-09/1.5

Évaluer ... ...

t_ox' = 1.33333333333333E-09

ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie

1.33333333333333E-09 Mètre -->1.33333333333333 Nanomètre (Vérifiez la conversion ici)

RÉPONSE FINALE

1.33333333333333 ≈ 1.333333 Nanomètre <-- Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète

(Calcul effectué en 00.004 secondes)

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Crédits

Créé par Priyanka Patel

Collège d'ingénierie Lalbhai Dalpatbhai (PEMD), Ahmedabad

Priyanka Patel a créé cette calculatrice et 25+ autres calculatrices!

Vérifié par Santhosh Yadav

Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Banglore

Santhosh Yadav a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!

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Coefficient d'effet corporel

LaTeX Aller Coefficient d'effet corporel = modulus((Tension de seuil-Tension de seuil DIBL)/(sqrt(Potentiel des surfaces+(Différence potentielle du corps source))-sqrt(Potentiel des surfaces)))

Coefficient DIBL

LaTeX Aller Coefficient DIBL = (Tension de seuil DIBL-Tension de seuil)/Potentiel de drainage vers la source

Charge de canal

LaTeX Aller Frais de canal = Capacité de porte*(Tension porte à canal-Tension de seuil)

Tension critique

LaTeX Aller Tension critique = Champ électrique critique*Champ électrique sur toute la longueur du canal

Épaisseur d'oxyde de grille après mise à l'échelle complète du VLSI Formule

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Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète = Épaisseur d'oxyde de porte/Facteur d'échelle
t_ox' = t_ox/Sf

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