Calculatrice A à Z
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Amélioration du canal N
Amélioration du canal P
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✖
La concentration de dopage de l'accepteur fait référence à la concentration d'atomes accepteurs intentionnellement ajoutés à un matériau semi-conducteur.
ⓘ
Concentration dopante de l'accepteur [N
A
]
Électrons par centimètre cube
Électrons par mètre cube
+10%
-10%
✖
Le potentiel de surface est le potentiel électrique à la surface du semi-conducteur, plus précisément à l'interface entre le semi-conducteur et l'isolant.
ⓘ
Potentiel des surfaces [Φ
s
]
Kilovolt
Mégavolt
Microvolt
millivolt
Nanovolt
Tension de Planck
Volt
+10%
-10%
✖
Le potentiel de Fermi en vrac est un paramètre qui décrit le potentiel électrostatique dans la masse (à l'intérieur) d'un matériau semi-conducteur.
ⓘ
Potentiel Fermi en vrac [Φ
f
]
Kilovolt
Mégavolt
Microvolt
millivolt
Nanovolt
Tension de Planck
Volt
+10%
-10%
✖
La densité des charges de couche d'épuisement est la quantité de ces charges fixes par unité de surface dans la région d'épuisement.
ⓘ
Densité de charge dans la région d'épuisement [Q
d
]
Électrons par centimètre cube
Électrons par mètre cube
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Densité de charge dans la région d'épuisement Solution
ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Densité de charge de couche d'épuisement
= (
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
Concentration dopante de l'accepteur
*
modulus
(
Potentiel des surfaces
-
Potentiel Fermi en vrac
)))
Q
d
= (
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
N
A
*
modulus
(
Φ
s
-
Φ
f
)))
Cette formule utilise
2
Constantes
,
2
Les fonctions
,
4
Variables
Constantes utilisées
[Permitivity-silicon]
- Permittivité du silicium Valeur prise comme 11.7
[Charge-e]
- Charge d'électron Valeur prise comme 1.60217662E-19
Fonctions utilisées
sqrt
- Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné., sqrt(Number)
modulus
- Le module d'un nombre est le reste lorsque ce nombre est divisé par un autre nombre., modulus
Variables utilisées
Densité de charge de couche d'épuisement
-
(Mesuré en Électrons par mètre cube)
- La densité des charges de couche d'épuisement est la quantité de ces charges fixes par unité de surface dans la région d'épuisement.
Concentration dopante de l'accepteur
-
(Mesuré en Électrons par mètre cube)
- La concentration de dopage de l'accepteur fait référence à la concentration d'atomes accepteurs intentionnellement ajoutés à un matériau semi-conducteur.
Potentiel des surfaces
-
(Mesuré en Volt)
- Le potentiel de surface est le potentiel électrique à la surface du semi-conducteur, plus précisément à l'interface entre le semi-conducteur et l'isolant.
Potentiel Fermi en vrac
-
(Mesuré en Volt)
- Le potentiel de Fermi en vrac est un paramètre qui décrit le potentiel électrostatique dans la masse (à l'intérieur) d'un matériau semi-conducteur.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Concentration dopante de l'accepteur:
1.32 Électrons par centimètre cube --> 1320000 Électrons par mètre cube
(Vérifiez la conversion
ici
)
Potentiel des surfaces:
0.78 Volt --> 0.78 Volt Aucune conversion requise
Potentiel Fermi en vrac:
0.25 Volt --> 0.25 Volt Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
Q
d
= (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*N
A
*modulus(Φ
s
-Φ
f
))) -->
(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*1320000*
modulus
(0.78-0.25)))
Évaluer ... ...
Q
d
= 1.61952637096272E-06
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
1.61952637096272E-06 Électrons par mètre cube --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
1.61952637096272E-06
≈
1.6E-6 Électrons par mètre cube
<--
Densité de charge de couche d'épuisement
(Calcul effectué en 00.004 secondes)
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Densité de charge dans la région d'épuisement
Crédits
Créé par
banuprakash
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar
(DSCE)
,
Bangalore
banuprakash a créé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!
Vérifié par
Dipanjona Mallick
Institut du patrimoine de technologie
(HITK)
,
Calcutta
Dipanjona Mallick a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!
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Transistors MOS Calculatrices
Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
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Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
= -(2*
sqrt
(
Potentiel intégré des jonctions des parois latérales
)/(
Tension finale
-
Tension initiale
)*(
sqrt
(
Potentiel intégré des jonctions des parois latérales
-
Tension finale
)-
sqrt
(
Potentiel intégré des jonctions des parois latérales
-
Tension initiale
)))
Potentiel de Fermi pour le type P
LaTeX
Aller
Potentiel de Fermi pour le type P
= (
[BoltZ]
*
Température absolue
)/
[Charge-e]
*
ln
(
Concentration intrinsèque de porteurs
/
Concentration dopante de l'accepteur
)
Capacité équivalente à grande jonction de signal
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Capacité équivalente à grande jonction de signal
=
Périmètre du flanc
*
Capacité de jonction des parois latérales
*
Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
Capacité de jonction de paroi latérale à polarisation nulle par unité de longueur
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Capacité de jonction des parois latérales
=
Potentiel de jonction des parois latérales sans polarisation
*
Profondeur du flanc
Voir plus >>
Densité de charge dans la région d'épuisement Formule
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Densité de charge de couche d'épuisement
= (
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
Concentration dopante de l'accepteur
*
modulus
(
Potentiel des surfaces
-
Potentiel Fermi en vrac
)))
Q
d
= (
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
N
A
*
modulus
(
Φ
s
-
Φ
f
)))
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