Densité de charge dans la région d'épuisement Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Densité de charge de couche d'épuisement = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentration dopante de l'accepteur*modulus(Potentiel des surfaces-Potentiel Fermi en vrac)))
Qd = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA*modulus(Φs-Φf)))
Cette formule utilise 2 Constantes, 2 Les fonctions, 4 Variables
Constantes utilisées
[Permitivity-silicon] - Permittivité du silicium Valeur prise comme 11.7
[Charge-e] - Charge d'électron Valeur prise comme 1.60217662E-19
Fonctions utilisées
sqrt - Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné., sqrt(Number)
modulus - Le module d'un nombre est le reste lorsque ce nombre est divisé par un autre nombre., modulus
Variables utilisées
Densité de charge de couche d'épuisement - (Mesuré en Électrons par mètre cube) - La densité des charges de couche d'épuisement est la quantité de ces charges fixes par unité de surface dans la région d'épuisement.
Concentration dopante de l'accepteur - (Mesuré en Électrons par mètre cube) - La concentration de dopage de l'accepteur fait référence à la concentration d'atomes accepteurs intentionnellement ajoutés à un matériau semi-conducteur.
Potentiel des surfaces - (Mesuré en Volt) - Le potentiel de surface est le potentiel électrique à la surface du semi-conducteur, plus précisément à l'interface entre le semi-conducteur et l'isolant.
Potentiel Fermi en vrac - (Mesuré en Volt) - Le potentiel de Fermi en vrac est un paramètre qui décrit le potentiel électrostatique dans la masse (à l'intérieur) d'un matériau semi-conducteur.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Concentration dopante de l'accepteur: 1.32 Électrons par centimètre cube --> 1320000 Électrons par mètre cube (Vérifiez la conversion ​ici)
Potentiel des surfaces: 0.78 Volt --> 0.78 Volt Aucune conversion requise
Potentiel Fermi en vrac: 0.25 Volt --> 0.25 Volt Aucune conversion requise
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
Qd = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA*modulus(Φsf))) --> (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*1320000*modulus(0.78-0.25)))
Évaluer ... ...
Qd = 1.61952637096272E-06
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
1.61952637096272E-06 Électrons par mètre cube --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
1.61952637096272E-06 1.6E-6 Électrons par mètre cube <-- Densité de charge de couche d'épuisement
(Calcul effectué en 00.020 secondes)

Crédits

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Créé par banuprakash
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore
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Vérifié par Dipanjona Mallick
Institut du patrimoine de technologie (HITK), Calcutta
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Transistors MOS Calculatrices

Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
​ LaTeX ​ Aller Facteur d’équivalence de tension des parois latérales = -(2*sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales)/(Tension finale-Tension initiale)*(sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales-Tension finale)-sqrt(Potentiel intégré des jonctions des parois latérales-Tension initiale)))
Potentiel de Fermi pour le type P
​ LaTeX ​ Aller Potentiel de Fermi pour le type P = ([BoltZ]*Température absolue)/[Charge-e]*ln(Concentration intrinsèque de porteurs/Concentration dopante de l'accepteur)
Capacité équivalente à grande jonction de signal
​ LaTeX ​ Aller Capacité équivalente à grande jonction de signal = Périmètre du flanc*Capacité de jonction des parois latérales*Facteur d’équivalence de tension des parois latérales
Capacité de jonction de paroi latérale à polarisation nulle par unité de longueur
​ LaTeX ​ Aller Capacité de jonction des parois latérales = Potentiel de jonction des parois latérales sans polarisation*Profondeur du flanc

Densité de charge dans la région d'épuisement Formule

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Densité de charge de couche d'épuisement = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Concentration dopante de l'accepteur*modulus(Potentiel des surfaces-Potentiel Fermi en vrac)))
Qd = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*NA*modulus(Φs-Φf)))
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