Calculatrice A à Z
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Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage Calculatrice
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Fabrication de circuits intégrés bipolaires
Déclencheur Schmitt
Fabrication de circuits intégrés MOS
✖
Le dopage côté N fait référence au processus d'introduction de types spécifiques d'impuretés dans la région semi-conductrice de type N d'un dispositif semi-conducteur.
ⓘ
Dopage côté N [N
dn
]
1 par centimètre cube
1 par mètre cube
+10%
-10%
✖
Le dopage côté P fait référence au processus d'introduction de types spécifiques d'impuretés dans la région semi-conductrice de type P d'un dispositif semi-conducteur.
ⓘ
Dopage côté P [N
dp
]
1 par centimètre cube
1 par mètre cube
+10%
-10%
✖
L'efficacité d'injection de l'émetteur est le rapport entre le courant électronique circulant dans l'émetteur et le courant total à travers la jonction de base de l'émetteur.
ⓘ
Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage [γ]
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Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage Solution
ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul
Formule utilisée
Efficacité d'injection de l'émetteur
=
Dopage côté N
/(
Dopage côté N
+
Dopage côté P
)
γ
=
N
dn
/(
N
dn
+
N
dp
)
Cette formule utilise
3
Variables
Variables utilisées
Efficacité d'injection de l'émetteur
- L'efficacité d'injection de l'émetteur est le rapport entre le courant électronique circulant dans l'émetteur et le courant total à travers la jonction de base de l'émetteur.
Dopage côté N
-
(Mesuré en 1 par mètre cube)
- Le dopage côté N fait référence au processus d'introduction de types spécifiques d'impuretés dans la région semi-conductrice de type N d'un dispositif semi-conducteur.
Dopage côté P
-
(Mesuré en 1 par mètre cube)
- Le dopage côté P fait référence au processus d'introduction de types spécifiques d'impuretés dans la région semi-conductrice de type P d'un dispositif semi-conducteur.
ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base
Dopage côté N:
4.8 1 par centimètre cube --> 4800000 1 par mètre cube
(Vérifiez la conversion
ici
)
Dopage côté P:
1.8 1 par centimètre cube --> 1800000 1 par mètre cube
(Vérifiez la conversion
ici
)
ÉTAPE 2: Évaluer la formule
Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule
γ = N
dn
/(N
dn
+N
dp
) -->
4800000/(4800000+1800000)
Évaluer ... ...
γ
= 0.727272727272727
ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie
0.727272727272727 --> Aucune conversion requise
RÉPONSE FINALE
0.727272727272727
≈
0.727273
<--
Efficacité d'injection de l'émetteur
(Calcul effectué en 00.004 secondes)
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Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage
Crédits
Créé par
banuprakash
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar
(DSCE)
,
Bangalore
banuprakash a créé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!
Vérifié par
Santhosh Yadav
Collège d'ingénierie Dayananda Sagar
(DSCE)
,
Banglore
Santhosh Yadav a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!
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Fabrication de circuits intégrés bipolaires Calculatrices
Conductivité de type N
LaTeX
Aller
Conductivité Ohmique
=
Charge
*(
Mobilité du silicium dopé électroniquement
*
Concentration d'équilibre de type N
+
Mobilité du silicium dopé par trous
*(
Concentration intrinsèque
^2/
Concentration d'équilibre de type N
))
Conductivité ohmique des impuretés
LaTeX
Aller
Conductivité Ohmique
=
Charge
*(
Mobilité du silicium dopé électroniquement
*
Concentration d'électrons
+
Mobilité du silicium dopé par trous
*
Concentration des trous
)
Impureté à concentration intrinsèque
LaTeX
Aller
Concentration intrinsèque
=
sqrt
((
Concentration d'électrons
*
Concentration des trous
)/
Impureté de température
)
Tension de rupture de l'émetteur collecteur
LaTeX
Aller
Tension de rupture du collecteur et de l'émetteur
=
Tension de rupture de la base du collecteur
/(
Gain actuel du BJT
)^(1/
Numéro racine
)
Voir plus >>
Efficacité d’injection de l’émetteur compte tenu des constantes de dopage Formule
LaTeX
Aller
Efficacité d'injection de l'émetteur
=
Dopage côté N
/(
Dopage côté N
+
Dopage côté P
)
γ
=
N
dn
/(
N
dn
+
N
dp
)
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