PGCD de deux nombres

Densité de charge de la région d'épuisement en vrac VLSI Calculatrice

Ingénierie Chimie Financier La physique Plus >>

↳

Électronique Civil Électrique Electronique et instrumentation Plus >>

⤿

Fabrication VLSI Amplificateurs Antenne et propagation des ondes Appareils optoélectroniques Plus >>

⤿

Optimisation des matériaux VLSI Conception VLSI analogique

✖Étendue latérale de la région d'appauvrissement avec la source : distance horizontale sur laquelle la région d'appauvrissement s'étend latéralement à partir du terminal source dans un dispositif semi-conducteur.ⓘ Étendue latérale de la région d'épuisement avec source [ΔL_s]			+10% -10%
✖Étendue latérale de la région d'appauvrissement avec drain : distance horizontale sur laquelle la région d'appauvrissement s'étend latéralement à partir de la borne de drain dans un dispositif semi-conducteur.ⓘ Étendue latérale de la région d'épuisement avec drain [ΔL_D]			+10% -10%
✖La longueur du canal fait référence à la longueur physique du matériau semi-conducteur entre les bornes source et drain au sein de la structure du transistor.ⓘ Longueur du canal [L]			+10% -10%
✖La concentration d'accepteur fait référence à la concentration d'atomes de dopant accepteur dans un matériau semi-conducteur.ⓘ Concentration d'accepteur [N_A]			+10% -10%
✖Le potentiel de surface est un paramètre clé dans l’évaluation de la propriété DC des transistors à couches minces.ⓘ Potentiel des surfaces [Φ_s]			+10% -10%

✖La densité de charge de la région d'appauvrissement en vrac est définie comme la charge électrique par unité de surface associée à la région d'appauvrissement dans la majeure partie d'un dispositif semi-conducteur.ⓘ Densité de charge de la région d'épuisement en vrac VLSI [Q_B0]

⎘ Copie

👎

Formule

LaTeX

Réinitialiser

👍

Télécharger Électronique Formule PDF PDF Image

Densité de charge de la région d'épuisement en vrac VLSI Solution

ÉTAPE 0: Résumé du pré-calcul

Formule utilisée

Densité de charge de la région d'épuisement global = -(1-((Étendue latérale de la région d'épuisement avec source+Étendue latérale de la région d'épuisement avec drain)/(2*Longueur du canal)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentration d'accepteur*abs(2*Potentiel des surfaces))
Q_B0 = -(1-((ΔL_s+ΔL_D)/(2*L)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*N_A*abs(2*Φ_s))
Cette formule utilise 3 Constantes, 2 Les fonctions, 6 Variables

Constantes utilisées

[Permitivity-silicon] - Permittivité du silicium Valeur prise comme 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permittivité du vide Valeur prise comme 8.85E-12
[Charge-e] - Charge d'électron Valeur prise comme 1.60217662E-19

Fonctions utilisées

sqrt - Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné., sqrt(Number)
abs - La valeur absolue d'un nombre correspond à sa distance par rapport à zéro sur la droite numérique. Il s'agit toujours d'une valeur positive, car elle représente la grandeur d'un nombre sans tenir compte de sa direction., abs(Number)

Variables utilisées

Densité de charge de la région d'épuisement global - (Mesuré en Coulomb au mètre carré) - La densité de charge de la région d'appauvrissement en vrac est définie comme la charge électrique par unité de surface associée à la région d'appauvrissement dans la majeure partie d'un dispositif semi-conducteur.
Étendue latérale de la région d'épuisement avec source - (Mesuré en Mètre) - Étendue latérale de la région d'appauvrissement avec la source : distance horizontale sur laquelle la région d'appauvrissement s'étend latéralement à partir du terminal source dans un dispositif semi-conducteur.
Étendue latérale de la région d'épuisement avec drain - (Mesuré en Mètre) - Étendue latérale de la région d'appauvrissement avec drain : distance horizontale sur laquelle la région d'appauvrissement s'étend latéralement à partir de la borne de drain dans un dispositif semi-conducteur.
Longueur du canal - (Mesuré en Mètre) - La longueur du canal fait référence à la longueur physique du matériau semi-conducteur entre les bornes source et drain au sein de la structure du transistor.
Concentration d'accepteur - (Mesuré en 1 par mètre cube) - La concentration d'accepteur fait référence à la concentration d'atomes de dopant accepteur dans un matériau semi-conducteur.
Potentiel des surfaces - (Mesuré en Volt) - Le potentiel de surface est un paramètre clé dans l’évaluation de la propriété DC des transistors à couches minces.

ÉTAPE 1: Convertir les entrées en unité de base

Étendue latérale de la région d'épuisement avec source: 0.1 Micromètre --> 1E-07 Mètre (Vérifiez la conversion ici)
Étendue latérale de la région d'épuisement avec drain: 0.2 Micromètre --> 2E-07 Mètre (Vérifiez la conversion ici)
Longueur du canal: 2.5 Micromètre --> 2.5E-06 Mètre (Vérifiez la conversion ici)
Concentration d'accepteur: 1E+16 1 par centimètre cube --> 1E+22 1 par mètre cube (Vérifiez la conversion ici)
Potentiel des surfaces: 6.86 Volt --> 6.86 Volt Aucune conversion requise

ÉTAPE 2: Évaluer la formule

Remplacement des valeurs d'entrée dans la formule

Q_B0 = -(1-((ΔL_s+ΔL_D)/(2*L)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*N_A*abs(2*Φ_s)) --> -(1-((1E-07+2E-07)/(2*2.5E-06)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86))

Évaluer ... ...

Q_B0 = -0.00200557851391776

ÉTAPE 3: Convertir le résultat en unité de sortie

-0.00200557851391776 Coulomb au mètre carré -->-0.200557851391776 Microcoulomb par centimètre carré (Vérifiez la conversion ici)

RÉPONSE FINALE

-0.200557851391776 ≈ -0.200558 Microcoulomb par centimètre carré <-- Densité de charge de la région d'épuisement global

(Calcul effectué en 00.020 secondes)

Tu es là -

Accueil » Ingénierie » Électronique » Fabrication VLSI » Optimisation des matériaux VLSI » Densité de charge de la région d'épuisement en vrac VLSI

Crédits

Créé par Priyanka Patel

Collège d'ingénierie Lalbhai Dalpatbhai (PEMD), Ahmedabad

Priyanka Patel a créé cette calculatrice et 25+ autres calculatrices!

Vérifié par Santhosh Yadav

Collège d'ingénierie Dayananda Sagar (DSCE), Banglore

Santhosh Yadav a validé cette calculatrice et 50+ autres calculatrices!

< Optimisation des matériaux VLSI Calculatrices

Coefficient d'effet corporel

LaTeX Aller Coefficient d'effet corporel = modulus((Tension de seuil-Tension de seuil DIBL)/(sqrt(Potentiel des surfaces+(Différence potentielle du corps source))-sqrt(Potentiel des surfaces)))

Coefficient DIBL

LaTeX Aller Coefficient DIBL = (Tension de seuil DIBL-Tension de seuil)/Potentiel de drainage vers la source

Charge de canal

LaTeX Aller Frais de canal = Capacité de porte*(Tension porte à canal-Tension de seuil)

Tension critique

LaTeX Aller Tension critique = Champ électrique critique*Champ électrique sur toute la longueur du canal