Parámetro de transconductancia de proceso de PMOS Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS = Movilidad de agujeros en canal*Capacitancia de óxido
k'p = μp*Cox
Esta fórmula usa 3 Variables
Variables utilizadas
Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS - (Medido en Siemens) - El parámetro de transconductancia de proceso en PMOS (PTM) es un parámetro utilizado en el modelado de dispositivos semiconductores para caracterizar el rendimiento de un transistor.
Movilidad de agujeros en canal - (Medido en Metro cuadrado por voltio por segundo) - La movilidad de los agujeros en el canal depende de varios factores, como la estructura cristalina del material semiconductor, la presencia de impurezas, la temperatura,
Capacitancia de óxido - (Medido en Faradio) - La capacitancia de óxido es un parámetro importante que afecta el rendimiento de los dispositivos MOS, como la velocidad y el consumo de energía de los circuitos integrados.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Movilidad de agujeros en canal: 2.66 Metro cuadrado por voltio por segundo --> 2.66 Metro cuadrado por voltio por segundo No se requiere conversión
Capacitancia de óxido: 0.0008 Faradio --> 0.0008 Faradio No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
k'p = μp*Cox --> 2.66*0.0008
Evaluar ... ...
k'p = 0.002128
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
0.002128 Siemens -->2.128 milisiemens (Verifique la conversión ​aquí)
RESPUESTA FINAL
2.128 milisiemens <-- Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Creado por Payal Priya
Instituto de Tecnología Birsa (POCO), Sindri
¡Payal Priya ha creado esta calculadora y 600+ más calculadoras!
Verifier Image
Verificada por Urvi Rathod
Facultad de Ingeniería del Gobierno de Vishwakarma (VGEC), Ahmedabad
¡Urvi Rathod ha verificado esta calculadora y 1900+ más calculadoras!

Mejora del canal P Calculadoras

Corriente de drenaje en la región triodo del transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*((Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))*Voltaje entre drenaje y fuente-1/2*(Voltaje entre drenaje y fuente)^2)
Corriente de drenaje en la región del triodo del transistor PMOS dado Vsd
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(modulus(Voltaje efectivo)-1/2*Voltaje entre drenaje y fuente)*Voltaje entre drenaje y fuente
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))^2
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS dado Vov
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje efectivo)^2

Parámetro de transconductancia de proceso de PMOS Fórmula

​LaTeX ​Vamos
Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS = Movilidad de agujeros en canal*Capacitancia de óxido
k'p = μp*Cox

¿Para qué se utiliza un MOSFET?

El transistor MOSFET (Transistor de efecto de campo semiconductor de óxido metálico) es un dispositivo semiconductor que se usa ampliamente para fines de conmutación y para la amplificación de señales electrónicas en dispositivos electrónicos.

¿Cuáles son los tipos de MOSFET?

Hay dos clases de MOSFET. Hay un modo de agotamiento y un modo de mejora. Cada clase está disponible como canal n o p, lo que da un total de cuatro tipos de MOSFET. El modo de agotamiento viene en N o P y el modo de mejora viene en N o P

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