Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje VLSI Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentración de aceptor))*(Voltaje incorporado de unión+Drenar a la fuente potencial))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
Esta fórmula usa 3 Constantes, 1 Funciones, 4 Variables
Constantes utilizadas
[Permitivity-silicon] - Permitividad del silicio Valor tomado como 11.7
[Permitivity-vacuum] - Permitividad del vacío Valor tomado como 8.85E-12
[Charge-e] - carga de electrones Valor tomado como 1.60217662E-19
Funciones utilizadas
sqrt - Una función de raíz cuadrada es una función que toma un número no negativo como entrada y devuelve la raíz cuadrada del número de entrada dado., sqrt(Number)
Variables utilizadas
Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje - (Medido en Metro) - La profundidad de agotamiento de la unión Pn con drenaje se define como la extensión de la región de agotamiento hacia el material semiconductor cerca del terminal de drenaje.
Concentración de aceptor - (Medido en 1 por metro cúbico) - La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.
Voltaje incorporado de unión - (Medido en Voltio) - El voltaje incorporado en la unión se define como el voltaje que existe a través de una unión semiconductora en equilibrio térmico, donde no se aplica voltaje externo.
Drenar a la fuente potencial - (Medido en Voltio) - Drenaje a fuente El potencial es el potencial entre el drenaje y la fuente.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Concentración de aceptor: 1E+16 1 por centímetro cúbico --> 1E+22 1 por metro cúbico (Verifique la conversión ​aquí)
Voltaje incorporado de unión: 0.76 Voltio --> 0.76 Voltio No se requiere conversión
Drenar a la fuente potencial: 1.45 Voltio --> 1.45 Voltio No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds)) --> sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*1E+22))*(0.76+1.45))
Evaluar ... ...
xdD = 5.34466520692296E-07
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
5.34466520692296E-07 Metro -->0.534466520692296 Micrómetro (Verifique la conversión ​aquí)
RESPUESTA FINAL
0.534466520692296 0.534467 Micrómetro <-- Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Creado por Priyanka Patel
Facultad de ingeniería Lalbhai Dalpatbhai (LDCE), Ahmedabad
¡Priyanka Patel ha creado esta calculadora y 25+ más calculadoras!
Verifier Image
Verificada por Santhosh Yadav
Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar (DSCE), banglore
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Optimización de materiales VLSI Calculadoras

Coeficiente de efecto corporal
​ Vamos Coeficiente de efecto corporal = modulus((Voltaje umbral-Tensión umbral DIBL)/(sqrt(Potencial de superficie+(Diferencia de potencial del cuerpo fuente))-sqrt(Potencial de superficie)))
Coeficiente DIBL
​ Vamos Coeficiente DIBL = (Tensión umbral DIBL-Voltaje umbral)/Drenar a la fuente potencial
Carga de canal
​ Vamos Cargo del canal = Capacitancia de puerta*(Voltaje de puerta a canal-Voltaje umbral)
Voltaje crítico
​ Vamos Voltaje crítico = Campo eléctrico crítico*Campo eléctrico a lo largo del canal

Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje VLSI Fórmula

Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentración de aceptor))*(Voltaje incorporado de unión+Drenar a la fuente potencial))
xdD = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*NA))*(Ø0+Vds))
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