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Optimización de materiales VLSI
Diseño VLSI analógico
✖
Un parámetro empírico es una constante o valor utilizado en un modelo, ecuación o teoría que se deriva de experimentos y observaciones en lugar de deducirse teóricamente.
ⓘ
Parámetro empírico [k]
+10%
-10%
✖
El agotamiento del volumen de extensión vertical en el sustrato se refiere a la profundidad de la región de agotamiento en el sustrato (a granel) del MOSFET.
ⓘ
Agotamiento del volumen vertical en el sustrato [x
dm
]
Angstrom
Unidad Astronómica
Centímetro
Decímetro
Radio ecuatorial de la Tierra
Fermi
Pie
Pulgada
Kilómetro
Año luz
Metro
Micropulgada
Micrómetro
Micrón
Milla
Milímetro
nanómetro
Picómetro
Yarda
+10%
-10%
✖
El ancho del canal se define como el ancho físico del canal semiconductor entre los terminales de fuente y drenaje dentro de la estructura del transistor.
ⓘ
Ancho de banda [W
c
]
Angstrom
Unidad Astronómica
Centímetro
Decímetro
Radio ecuatorial de la Tierra
Fermi
Pie
Pulgada
Kilómetro
Año luz
Metro
Micropulgada
Micrómetro
Micrón
Milla
Milímetro
nanómetro
Picómetro
Yarda
+10%
-10%
✖
La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor.
ⓘ
Capacitancia de óxido por unidad de área [C
oxide
]
Farad por metro cuadrado
Microfaradio por centímetro cuadrado
Microfaradio por milímetro cuadrado
Nanofaradio por centímetro cuadrado
+10%
-10%
✖
La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.
ⓘ
Concentración de aceptor [N
A
]
1 por centímetro cúbico
1 por metro cúbico
por litro
+10%
-10%
✖
El potencial de superficie es un parámetro clave en la evaluación de la propiedad de CC de los transistores de película delgada.
ⓘ
Potencial de superficie [Φ
s
]
Kilovoltio
Megavoltio
Microvoltio
milivoltio
nanovoltios
Voltaje de Planck
Voltio
+10%
-10%
✖
El voltaje de umbral adicional de canal estrecho se define como una contribución adicional al voltaje de umbral debido a los efectos de canal estrecho en MOSFET.
ⓘ
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho VLSI [ΔV
T0(nc)
]
Kilovoltio
Megavoltio
Microvoltio
milivoltio
nanovoltios
Voltaje de Planck
Voltio
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Voltaje de umbral adicional de canal estrecho VLSI Solución
PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho
= ((
Parámetro empírico
*
Agotamiento del volumen vertical en el sustrato
)/(
Ancho de banda
*
Capacitancia de óxido por unidad de área
))*(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
Concentración de aceptor
*
[Permitivity-vacuum]
*
[Permitivity-silicon]
*
abs
(2*
Potencial de superficie
)))
ΔV
T0(nc)
= ((
k
*
x
dm
)/(
W
c
*
C
oxide
))*(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
N
A
*
[Permitivity-vacuum]
*
[Permitivity-silicon]
*
abs
(2*
Φ
s
)))
Esta fórmula usa
3
Constantes
,
2
Funciones
,
7
Variables
Constantes utilizadas
[Permitivity-silicon]
- Permitividad del silicio Valor tomado como 11.7
[Permitivity-vacuum]
- Permitividad del vacío Valor tomado como 8.85E-12
[Charge-e]
- carga de electrones Valor tomado como 1.60217662E-19
Funciones utilizadas
sqrt
- Una función de raíz cuadrada es una función que toma un número no negativo como entrada y devuelve la raíz cuadrada del número de entrada dado., sqrt(Number)
abs
- El valor absoluto de un número es su distancia al cero en la recta numérica. Siempre es un valor positivo, ya que representa la magnitud de un número sin tener en cuenta su dirección., abs(Number)
Variables utilizadas
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho
-
(Medido en Voltio)
- El voltaje de umbral adicional de canal estrecho se define como una contribución adicional al voltaje de umbral debido a los efectos de canal estrecho en MOSFET.
Parámetro empírico
- Un parámetro empírico es una constante o valor utilizado en un modelo, ecuación o teoría que se deriva de experimentos y observaciones en lugar de deducirse teóricamente.
Agotamiento del volumen vertical en el sustrato
-
(Medido en Metro)
- El agotamiento del volumen de extensión vertical en el sustrato se refiere a la profundidad de la región de agotamiento en el sustrato (a granel) del MOSFET.
Ancho de banda
-
(Medido en Metro)
- El ancho del canal se define como el ancho físico del canal semiconductor entre los terminales de fuente y drenaje dentro de la estructura del transistor.
Capacitancia de óxido por unidad de área
-
(Medido en Farad por metro cuadrado)
- La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor.
Concentración de aceptor
-
(Medido en 1 por metro cúbico)
- La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.
Potencial de superficie
-
(Medido en Voltio)
- El potencial de superficie es un parámetro clave en la evaluación de la propiedad de CC de los transistores de película delgada.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Parámetro empírico:
1.57 --> No se requiere conversión
Agotamiento del volumen vertical en el sustrato:
1.25 Micrómetro --> 1.25E-06 Metro
(Verifique la conversión
aquí
)
Ancho de banda:
2.5 Micrómetro --> 2.5E-06 Metro
(Verifique la conversión
aquí
)
Capacitancia de óxido por unidad de área:
0.0703 Microfaradio por centímetro cuadrado --> 0.000703 Farad por metro cuadrado
(Verifique la conversión
aquí
)
Concentración de aceptor:
1E+16 1 por centímetro cúbico --> 1E+22 1 por metro cúbico
(Verifique la conversión
aquí
)
Potencial de superficie:
6.86 Voltio --> 6.86 Voltio No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
ΔV
T0(nc)
= ((k*x
dm
)/(W
c
*C
oxide
))*(sqrt(2*[Charge-e]*N
A
*[Permitivity-vacuum]*[Permitivity-silicon]*abs(2*Φ
s
))) -->
((1.57*1.25E-06)/(2.5E-06*0.000703))*(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*1E+22*
[Permitivity-vacuum]
*
[Permitivity-silicon]
*
abs
(2*6.86)))
Evaluar ... ...
ΔV
T0(nc)
= 2.38246289976913
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
2.38246289976913 Voltio --> No se requiere conversión
RESPUESTA FINAL
2.38246289976913
≈
2.382463 Voltio
<--
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho
(Cálculo completado en 00.020 segundos)
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Voltaje de umbral adicional de canal estrecho VLSI
Créditos
Creado por
Priyanka Patel
Facultad de ingeniería Lalbhai Dalpatbhai
(LDCE)
,
Ahmedabad
¡Priyanka Patel ha creado esta calculadora y 25+ más calculadoras!
Verificada por
Santhosh Yadav
Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar
(DSCE)
,
banglore
¡Santhosh Yadav ha verificado esta calculadora y 50+ más calculadoras!
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Optimización de materiales VLSI Calculadoras
Coeficiente de efecto corporal
LaTeX
Vamos
Coeficiente de efecto corporal
=
modulus
((
Voltaje umbral
-
Tensión umbral DIBL
)/(
sqrt
(
Potencial de superficie
+(
Diferencia de potencial del cuerpo fuente
))-
sqrt
(
Potencial de superficie
)))
Coeficiente DIBL
LaTeX
Vamos
Coeficiente DIBL
= (
Tensión umbral DIBL
-
Voltaje umbral
)/
Drenar a la fuente potencial
Carga de canal
LaTeX
Vamos
Cargo del canal
=
Capacitancia de puerta
*(
Voltaje de puerta a canal
-
Voltaje umbral
)
Voltaje crítico
LaTeX
Vamos
Voltaje crítico
=
Campo eléctrico crítico
*
Campo eléctrico a lo largo del canal
Ver más >>
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho VLSI Fórmula
LaTeX
Vamos
Voltaje de umbral adicional de canal estrecho
= ((
Parámetro empírico
*
Agotamiento del volumen vertical en el sustrato
)/(
Ancho de banda
*
Capacitancia de óxido por unidad de área
))*(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
Concentración de aceptor
*
[Permitivity-vacuum]
*
[Permitivity-silicon]
*
abs
(2*
Potencial de superficie
)))
ΔV
T0(nc)
= ((
k
*
x
dm
)/(
W
c
*
C
oxide
))*(
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
N
A
*
[Permitivity-vacuum]
*
[Permitivity-silicon]
*
abs
(2*
Φ
s
)))
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