Carga de capa de inversión en PMOS Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Carga de capa de inversión = -Capacitancia de óxido*(Voltaje entre puerta y fuente-Voltaje de umbral)
Qp = -Cox*(VGS-VT)
Esta fórmula usa 4 Variables
Variables utilizadas
Carga de capa de inversión - (Medido en culombio por metro cuadrado) - La carga de la capa de inversión se refiere a la acumulación de portadores de carga en la interfaz entre el semiconductor y la capa de óxido aislante cuando se aplica un voltaje al electrodo de puerta.
Capacitancia de óxido - (Medido en Faradio) - La capacitancia de óxido es un parámetro importante que afecta el rendimiento de los dispositivos MOS, como la velocidad y el consumo de energía de los circuitos integrados.
Voltaje entre puerta y fuente - (Medido en Voltio) - El voltaje entre la puerta y la fuente de un transistor de efecto de campo (FET) se conoce como voltaje puerta-fuente (VGS). Es un parámetro importante que afecta el funcionamiento del FET.
Voltaje de umbral - (Medido en Voltio) - El voltaje de umbral, también conocido como voltaje de umbral de puerta o simplemente Vth, es un parámetro crítico en el funcionamiento de los transistores de efecto de campo, que son componentes fundamentales en la electrónica moderna.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Capacitancia de óxido: 0.0008 Faradio --> 0.0008 Faradio No se requiere conversión
Voltaje entre puerta y fuente: 2.86 Voltio --> 2.86 Voltio No se requiere conversión
Voltaje de umbral: 0.7 Voltio --> 0.7 Voltio No se requiere conversión
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
Qp = -Cox*(VGS-VT) --> -0.0008*(2.86-0.7)
Evaluar ... ...
Qp = -0.001728
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
-0.001728 culombio por metro cuadrado --> No se requiere conversión
RESPUESTA FINAL
-0.001728 culombio por metro cuadrado <-- Carga de capa de inversión
(Cálculo completado en 00.020 segundos)

Créditos

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Creado por Aman Dhussawat
INSTITUTO TECNOLÓGICO GURU TEGH BAHADUR (GTBIT), NUEVA DELHI
¡Aman Dhussawat ha creado esta calculadora y 50+ más calculadoras!
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Verificada por parminder singh
Universidad de Chandigarh (CU), Punjab
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Mejora del canal P Calculadoras

Corriente de drenaje en la región triodo del transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*((Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))*Voltaje entre drenaje y fuente-1/2*(Voltaje entre drenaje y fuente)^2)
Corriente de drenaje en la región del triodo del transistor PMOS dado Vsd
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje = Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(modulus(Voltaje efectivo)-1/2*Voltaje entre drenaje y fuente)*Voltaje entre drenaje y fuente
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje entre puerta y fuente-modulus(Voltaje de umbral))^2
Corriente de drenaje en la región de saturación del transistor PMOS dado Vov
​ LaTeX ​ Vamos Corriente de drenaje de saturación = 1/2*Parámetro de transconductancia de proceso en PMOS*Relación de aspecto*(Voltaje efectivo)^2

Carga de capa de inversión en PMOS Fórmula

​LaTeX ​Vamos
Carga de capa de inversión = -Capacitancia de óxido*(Voltaje entre puerta y fuente-Voltaje de umbral)
Qp = -Cox*(VGS-VT)
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