Capacitancia de puerta intrínseca Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo
Fórmula utilizada
Capacitancia de superposición de puerta MOS = Capacitancia de puerta MOS*Ancho de transición
Cmos = Cgcs*W
Esta fórmula usa 3 Variables
Variables utilizadas
Capacitancia de superposición de puerta MOS - (Medido en Faradio) - La capacitancia de superposición de puerta MOS es una capacitancia que proviene de la construcción del propio dispositivo y generalmente está asociada con sus uniones PN internas.
Capacitancia de puerta MOS - (Medido en Faradio) - La capacitancia de la puerta MOS es un factor importante en el cálculo de la capacitancia de superposición de la puerta.
Ancho de transición - (Medido en Metro) - El ancho de transición se define como el aumento del ancho cuando aumenta el voltaje entre drenaje y fuente, lo que da como resultado que la región del triodo pase a la región de saturación.
PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base
Capacitancia de puerta MOS: 20.04 Microfaradio --> 2.004E-05 Faradio (Verifique la conversión ​aquí)
Ancho de transición: 89.82 Milímetro --> 0.08982 Metro (Verifique la conversión ​aquí)
PASO 2: Evaluar la fórmula
Sustituir valores de entrada en una fórmula
Cmos = Cgcs*W --> 2.004E-05*0.08982
Evaluar ... ...
Cmos = 1.7999928E-06
PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida
1.7999928E-06 Faradio -->1.7999928 Microfaradio (Verifique la conversión ​aquí)
RESPUESTA FINAL
1.7999928 1.799993 Microfaradio <-- Capacitancia de superposición de puerta MOS
(Cálculo completado en 00.004 segundos)

Créditos

Creator Image
Creado por Shobhit Dimri
Instituto de Tecnología Bipin Tripathi Kumaon (BTKIT), Dwarahat
¡Shobhit Dimri ha creado esta calculadora y 900+ más calculadoras!
Verifier Image
Verificada por Urvi Rathod
Facultad de Ingeniería del Gobierno de Vishwakarma (VGEC), Ahmedabad
¡Urvi Rathod ha verificado esta calculadora y 1900+ más calculadoras!

Optimización de materiales VLSI Calculadoras

Coeficiente de efecto corporal
​ Vamos Coeficiente de efecto corporal = modulus((Voltaje umbral-Tensión umbral DIBL)/(sqrt(Potencial de superficie+(Diferencia de potencial del cuerpo fuente))-sqrt(Potencial de superficie)))
Coeficiente DIBL
​ Vamos Coeficiente DIBL = (Tensión umbral DIBL-Voltaje umbral)/Drenar a la fuente potencial
Carga de canal
​ Vamos Cargo del canal = Capacitancia de puerta*(Voltaje de puerta a canal-Voltaje umbral)
Voltaje crítico
​ Vamos Voltaje crítico = Campo eléctrico crítico*Campo eléctrico a lo largo del canal

Capacitancia de puerta intrínseca Fórmula

Capacitancia de superposición de puerta MOS = Capacitancia de puerta MOS*Ancho de transición
Cmos = Cgcs*W

¿Cuál es la necesidad del dopaje en CMOS?

El dopaje en la tecnología CMOS se utiliza para introducir impurezas en el material semiconductor para alterar sus propiedades eléctricas. Al agregar dopantes, se puede aumentar la cantidad de portadores de carga libres (electrones o huecos), lo que permite un mayor control sobre el comportamiento eléctrico del dispositivo. Esto es esencial para crear circuitos CMOS de alto rendimiento que utilicen transistores tipo n y tipo p.

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