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Calculadora Profundidad de enfoque

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✖El factor de proporcionalidad es una constante que relaciona dos parámetros clave: la dimensión crítica (CD) y la dosis de exposición.ⓘ Factor de proporcionalidad [k₂]			+10% -10%
✖La longitud de onda en fotolitografía se refiere al rango específico de radiación electromagnética empleada para modelar obleas semiconductoras durante el proceso de fabricación de semiconductores.ⓘ Longitud de onda en fotolitografía [λ_l]			+10% -10%
✖La apertura numérica de un sistema óptico es un parámetro utilizado en óptica para describir la capacidad de un sistema óptico. En el contexto de la fabricación de semiconductores y la fotolitografía.ⓘ Apertura numérica [NA]			+10% -10%

✖La profundidad de enfoque es un parámetro crítico que influye en la tolerancia a las variaciones en la altura de la oblea semiconductora.ⓘ Profundidad de enfoque [DOF]

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Profundidad de enfoque Solución

PASO 0: Resumen del cálculo previo

Fórmula utilizada

Profundidad de enfoque = Factor de proporcionalidad*Longitud de onda en fotolitografía/(Apertura numérica^2)
DOF = k₂*λ_l/(NA^2)
Esta fórmula usa 4 Variables

Variables utilizadas

Profundidad de enfoque - (Medido en Metro) - La profundidad de enfoque es un parámetro crítico que influye en la tolerancia a las variaciones en la altura de la oblea semiconductora.
Factor de proporcionalidad - El factor de proporcionalidad es una constante que relaciona dos parámetros clave: la dimensión crítica (CD) y la dosis de exposición.
Longitud de onda en fotolitografía - (Medido en Metro) - La longitud de onda en fotolitografía se refiere al rango específico de radiación electromagnética empleada para modelar obleas semiconductoras durante el proceso de fabricación de semiconductores.
Apertura numérica - La apertura numérica de un sistema óptico es un parámetro utilizado en óptica para describir la capacidad de un sistema óptico. En el contexto de la fabricación de semiconductores y la fotolitografía.

PASO 1: Convierta la (s) entrada (s) a la unidad base

Factor de proporcionalidad: 3 --> No se requiere conversión
Longitud de onda en fotolitografía: 223 nanómetro --> 2.23E-07 Metro (Verifique la conversión aquí)
Apertura numérica: 0.717 --> No se requiere conversión

PASO 2: Evaluar la fórmula

Sustituir valores de entrada en una fórmula

DOF = k₂*λ_l/(NA^2) --> 3*2.23E-07/(0.717^2)

Evaluar ... ...

DOF = 1.30133109247621E-06

PASO 3: Convierta el resultado a la unidad de salida

1.30133109247621E-06 Metro -->1.30133109247621 Micrómetro (Verifique la conversión aquí)

RESPUESTA FINAL

1.30133109247621 ≈ 1.301331 Micrómetro <-- Profundidad de enfoque

(Cálculo completado en 00.004 segundos)

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Créditos

Creado por banuprakash

Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar (DSCE), Bangalore

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Verificada por Santhosh Yadav

Facultad de Ingeniería Dayananda Sagar (DSCE), banglore

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