Durch Dotierung werden in der CMOS-Technologie Verunreinigungen in das Halbleitermaterial eingebracht, um dessen elektrische Eigenschaften zu verändern. Durch die Zugabe von Dotierstoffen kann die Anzahl der freien Ladungsträger (Elektronen oder Löcher) erhöht werden, was eine bessere Kontrolle über das elektrische Verhalten des Geräts ermöglicht. Dies ist wichtig für die Erstellung leistungsstarker CMOS-Schaltkreise, die sowohl n-Typ- als auch p-Typ-Transistoren verwenden.