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Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region (VLSI). Taschenrechner
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VLSI-Materialoptimierung
Analoges VLSI-Design
✖
Laterale Ausdehnung des Verarmungsbereichs mit Quelle ist die horizontale Entfernung, über die sich der Verarmungsbereich seitlich vom Source-Anschluss in einem Halbleiterbauelement erstreckt.
ⓘ
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Quelle [ΔL
s
]
Angström
Astronomische Einheit
Zentimeter
Dezimeter
Erdäquatorialradius
Fermi
Versfuß
Inch
Kilometer
Lichtjahr
Meter
Mikrozoll
Mikrometer
Mikron
Meile
Millimeter
Nanometer
Picometer
Yard
+10%
-10%
✖
Laterale Ausdehnung des Verarmungsbereichs mit Drain ist der horizontale Abstand, über den sich der Verarmungsbereich seitlich vom Drain-Anschluss in einem Halbleiterbauelement erstreckt.
ⓘ
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Abfluss [ΔL
D
]
Angström
Astronomische Einheit
Zentimeter
Dezimeter
Erdäquatorialradius
Fermi
Versfuß
Inch
Kilometer
Lichtjahr
Meter
Mikrozoll
Mikrometer
Mikron
Meile
Millimeter
Nanometer
Picometer
Yard
+10%
-10%
✖
Die Kanallänge bezieht sich auf die physikalische Länge des Halbleitermaterials zwischen den Source- und Drain-Anschlüssen innerhalb der Transistorstruktur.
ⓘ
Kanallänge [L]
Angström
Astronomische Einheit
Zentimeter
Dezimeter
Erdäquatorialradius
Fermi
Versfuß
Inch
Kilometer
Lichtjahr
Meter
Mikrozoll
Mikrometer
Mikron
Meile
Millimeter
Nanometer
Picometer
Yard
+10%
-10%
✖
Unter Akzeptorkonzentration versteht man die Konzentration von Akzeptor-Dotierstoffatomen in einem Halbleitermaterial.
ⓘ
Akzeptorkonzentration [N
A
]
1 pro Kubikzentimeter
1 pro Kubikmeter
pro Liter
+10%
-10%
✖
Das Oberflächenpotential ist ein Schlüsselparameter bei der Bewertung der Gleichstromeigenschaft von Dünnschichttransistoren.
ⓘ
Oberflächenpotential [Φ
s
]
Kilovolt
Megavolt
Mikrovolt
Millivolt
Nanovolt
Planck Spannung
Volt
+10%
-10%
✖
Die Ladungsdichte der Massenverarmungsregion ist definiert als elektrische Ladung pro Flächeneinheit, die der Verarmungsregion in der Masse eines Halbleiterbauelements zugeordnet ist.
ⓘ
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region (VLSI). [Q
B0
]
Abcoulomb pro Quadratmeter
Coulomb pro Quadratzentimeter
Coulomb pro Quadratzoll
Coulomb pro Quadratmeter
Mikrocoulomb pro Quadratzentimeter
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Schritte
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Formel
LaTeX
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👍
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Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region (VLSI). Lösung
SCHRITT 0: Zusammenfassung vor der Berechnung
Gebrauchte Formel
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region
= -(1-((
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Quelle
+
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Abfluss
)/(2*
Kanallänge
)))*
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
[Permitivity-vacuum]
*
Akzeptorkonzentration
*
abs
(2*
Oberflächenpotential
))
Q
B0
= -(1-((
ΔL
s
+
ΔL
D
)/(2*
L
)))*
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
[Permitivity-vacuum]
*
N
A
*
abs
(2*
Φ
s
))
Diese formel verwendet
3
Konstanten
,
2
Funktionen
,
6
Variablen
Verwendete Konstanten
[Permitivity-silicon]
- Permittivität von Silizium Wert genommen als 11.7
[Permitivity-vacuum]
- Permittivität des Vakuums Wert genommen als 8.85E-12
[Charge-e]
- Ladung eines Elektrons Wert genommen als 1.60217662E-19
Verwendete Funktionen
sqrt
- Eine Quadratwurzelfunktion ist eine Funktion, die eine nicht negative Zahl als Eingabe verwendet und die Quadratwurzel der gegebenen Eingabezahl zurückgibt., sqrt(Number)
abs
- Der Absolutwert einer Zahl ist ihr Abstand von Null auf der Zahlenlinie. Es handelt sich immer um einen positiven Wert, da er die Größe einer Zahl ohne Berücksichtigung ihrer Richtung darstellt., abs(Number)
Verwendete Variablen
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region
-
(Gemessen in Coulomb pro Quadratmeter)
- Die Ladungsdichte der Massenverarmungsregion ist definiert als elektrische Ladung pro Flächeneinheit, die der Verarmungsregion in der Masse eines Halbleiterbauelements zugeordnet ist.
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Quelle
-
(Gemessen in Meter)
- Laterale Ausdehnung des Verarmungsbereichs mit Quelle ist die horizontale Entfernung, über die sich der Verarmungsbereich seitlich vom Source-Anschluss in einem Halbleiterbauelement erstreckt.
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Abfluss
-
(Gemessen in Meter)
- Laterale Ausdehnung des Verarmungsbereichs mit Drain ist der horizontale Abstand, über den sich der Verarmungsbereich seitlich vom Drain-Anschluss in einem Halbleiterbauelement erstreckt.
Kanallänge
-
(Gemessen in Meter)
- Die Kanallänge bezieht sich auf die physikalische Länge des Halbleitermaterials zwischen den Source- und Drain-Anschlüssen innerhalb der Transistorstruktur.
Akzeptorkonzentration
-
(Gemessen in 1 pro Kubikmeter)
- Unter Akzeptorkonzentration versteht man die Konzentration von Akzeptor-Dotierstoffatomen in einem Halbleitermaterial.
Oberflächenpotential
-
(Gemessen in Volt)
- Das Oberflächenpotential ist ein Schlüsselparameter bei der Bewertung der Gleichstromeigenschaft von Dünnschichttransistoren.
SCHRITT 1: Konvertieren Sie die Eingänge in die Basiseinheit
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Quelle:
0.1 Mikrometer --> 1E-07 Meter
(Überprüfen sie die konvertierung
hier
)
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Abfluss:
0.2 Mikrometer --> 2E-07 Meter
(Überprüfen sie die konvertierung
hier
)
Kanallänge:
2.5 Mikrometer --> 2.5E-06 Meter
(Überprüfen sie die konvertierung
hier
)
Akzeptorkonzentration:
1E+16 1 pro Kubikzentimeter --> 1E+22 1 pro Kubikmeter
(Überprüfen sie die konvertierung
hier
)
Oberflächenpotential:
6.86 Volt --> 6.86 Volt Keine Konvertierung erforderlich
SCHRITT 2: Formel auswerten
Eingabewerte in Formel ersetzen
Q
B0
= -(1-((ΔL
s
+ΔL
D
)/(2*L)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*N
A
*abs(2*Φ
s
)) -->
-(1-((1E-07+2E-07)/(2*2.5E-06)))*
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
[Permitivity-vacuum]
*1E+22*
abs
(2*6.86))
Auswerten ... ...
Q
B0
= -0.00200557851391776
SCHRITT 3: Konvertieren Sie das Ergebnis in die Ausgabeeinheit
-0.00200557851391776 Coulomb pro Quadratmeter -->-0.200557851391776 Mikrocoulomb pro Quadratzentimeter
(Überprüfen sie die konvertierung
hier
)
ENDGÜLTIGE ANTWORT
-0.200557851391776
≈
-0.200558 Mikrocoulomb pro Quadratzentimeter
<--
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region
(Berechnung in 00.020 sekunden abgeschlossen)
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VLSI-Materialoptimierung
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Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region (VLSI).
Credits
Erstellt von
Priyanka Patel
Lalbhai Dalpatbhai College für Ingenieurwissenschaften
(LDCE)
,
Ahmedabad
Priyanka Patel hat diesen Rechner und 25+ weitere Rechner erstellt!
Geprüft von
Santhosh Yadav
Dayananda Sagar College of Engineering
(DSCE)
,
Banglore
Santhosh Yadav hat diesen Rechner und 50+ weitere Rechner verifiziert!
<
VLSI-Materialoptimierung Taschenrechner
Body-Effect-Koeffizient
LaTeX
Gehen
Körpereffektkoeffizient
=
modulus
((
Grenzspannung
-
Schwellenspannung DIBL
)/(
sqrt
(
Oberflächenpotential
+(
Potenzialdifferenz des Quellkörpers
))-
sqrt
(
Oberflächenpotential
)))
DIBL-Koeffizient
LaTeX
Gehen
DIBL-Koeffizient
= (
Schwellenspannung DIBL
-
Grenzspannung
)/
Drain-to-Source-Potenzial
Kanalladung
LaTeX
Gehen
Kanalgebühr
=
Gate-Kapazität
*(
Gate-zu-Kanal-Spannung
-
Grenzspannung
)
Kritische Spannung
LaTeX
Gehen
Kritische Spannung
=
Kritisches elektrisches Feld
*
Elektrisches Feld über die Kanallänge
Mehr sehen >>
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region (VLSI). Formel
LaTeX
Gehen
Ladungsdichte der Bulk-Depletion-Region
= -(1-((
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Quelle
+
Laterale Ausdehnung der Verarmungsregion mit Abfluss
)/(2*
Kanallänge
)))*
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
[Permitivity-vacuum]
*
Akzeptorkonzentration
*
abs
(2*
Oberflächenpotential
))
Q
B0
= -(1-((
ΔL
s
+
ΔL
D
)/(2*
L
)))*
sqrt
(2*
[Charge-e]
*
[Permitivity-silicon]
*
[Permitivity-vacuum]
*
N
A
*
abs
(2*
Φ
s
))
Zuhause
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